[發(fā)明專利]玻璃再生處理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811229615.6 | 申請日: | 2013-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN109298594B | 公開(公告)日: | 2021-12-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 木下一樹;二島悟;青木陽祐;板倉敬二郎 | 申請(專利權(quán))人: | 大日本印刷株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/60 | 分類號: | G03F1/60;B09B5/00;C03C15/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 玻璃 再生 處理 方法 使用 光掩模 坯料 | ||
本發(fā)明涉及為了將在各種平板的生產(chǎn)中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成為不良的光掩模作為新型光掩模用玻璃基板再利用而進行再生處理的方法、利用該再生處理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用該光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通過對再生玻璃基板的表面未進行以往的物理性研磨處理而進行使?jié)櫇裥跃鶆蚧敝猎诤魵庀駲z查中不出現(xiàn)原本圖案痕跡的處理,能夠以低成本獲得缺陷少的再生玻璃基板。
本申請是國際申請日為2013年9月19日、申請?zhí)枮?01380047359.8、發(fā)明名稱為“玻璃再生處理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模”的發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及為了將以金屬薄膜形成圖案且在各種平板的光蝕刻(以下也稱為光刻)工序中被用于生產(chǎn)的光掩模或光掩模制造工序中成為不良的光掩模作為新型光掩模用玻璃基板再利用而進行再生處理的方法、利用該再生處理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用該光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。
背景技術(shù)
通常用于制造平板等的光掩模通過如下方式制成:在合成石英等低膨脹玻璃基板上層疊鉻、氧化鉻、氮化鉻等的金屬薄膜,制成形成有遮光層的光掩模用坯料,對該光掩模用坯料使用光蝕刻法并利用EB(Electron Beam,電子束)描繪或激光描繪形成圖案。
此種光掩模被組裝使用在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、高精度的觸控面板等的用于形成像素等的各種曝光裝置等中。這些制品所使用的光掩模根據(jù)品質(zhì)性能而使用合成石英,隨著近年來面板的大型化,光掩模尺寸也逐漸大型化,光掩模用玻璃基板也變得更昂貴,使得使用完的光掩模或不良的光掩模的再利用成為重要技術(shù)。
對于上述光掩模基板而言,從品質(zhì)、高度的觀點出發(fā),光掩模用玻璃基板的材質(zhì)通常使用合成石英,玻璃基板的尺寸在液晶顯示設(shè)備的平板基板的第1代基板中為320mm×300mm,光掩模用玻璃基板尺寸為較平板用玻璃基板稍大的330mm×450mm,因而進行一并曝光,但隨著平板基板的大型化,曝光裝置也大型化,進而投影曝光或接近曝光等曝光方式以及步進式輸送或掃描方式等輸送方式也多樣化,光掩模尺寸也大型化、多樣化。
在此種平板中,平板基板的第5代為1000mm×1200mm,其光掩模基板尺寸通常為520mm×800mm或800mm×920mm。第8代的平板基板為2160mm×2460mm,其所使用的光掩模基板尺寸為1220mm×1400mm等。
另一方面,合成石英的高品質(zhì)的光掩模用玻璃基板正加速面板的低成本化,因而要求降低成本,故進行使用完的光掩模或不良的光掩模的再生處理。
通常平板的每個部件的各制品的光掩模圖案并不相同,在制品的生產(chǎn)結(jié)束時,便不再需要這些光掩模。
另外,在光掩模工序中,也會產(chǎn)生在制造工序中產(chǎn)生的不良品或檢查工序中的不良品。
為了再利用上述使用完的光掩模基板或不良的光掩模基板,將形成有圖案的金屬薄膜利用蝕刻液溶解去除而使其成為玻璃坯料的狀態(tài)。
然而,使用完的光掩模基板或已經(jīng)在光掩模工序中形成金屬薄膜圖案的基板存在如下問題:僅將金屬薄膜圖案利用蝕刻液溶解去除并洗滌時,若再次使金屬薄膜成膜并對利用光刻加工對該基板形成圖案,則存在原本的圖案痕跡,并且容易產(chǎn)生圖案缺陷。
因此,在再利用上述光掩模時,在將形成有圖案的金屬薄膜利用蝕刻液溶解去除而使其成為玻璃坯料的狀態(tài)后,為了使玻璃表面潔凈且均勻化而進一步使用研磨劑對玻璃表面進行物理性研磨,再進行去除在研磨中所使用的研磨劑的洗滌,而作為光掩模用玻璃基板進行再利用。
專利文獻1為一種在光掩模存在表面損傷的基板的再生處理方法,其對光掩模的遮光層進行蝕刻而溶解去除在光掩模制造工序中產(chǎn)生的損傷,磨削玻璃基板直至達到損傷的深度而去除玻璃表面的損傷,對具有因表面磨削所造成的微小凹凸的表面進行鏡面拋光研磨處理,從而再生為玻璃坯料。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





