[發(fā)明專利]齒盤(pán)機(jī)械反饋圈測(cè)角實(shí)現(xiàn)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811228829.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109238178A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭志;王曉卿;任夢(mèng)晴;陳先梅;柯四十;胡斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 九江精達(dá)檢測(cè)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/26 | 分類號(hào): | G01B11/26 |
| 代理公司: | 江西省專利事務(wù)所 36100 | 代理人: | 張文 |
| 地址: | 332000 江西*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機(jī)械裝置 齒盤(pán) 反射式光電開(kāi)關(guān) 上齒盤(pán) 控制器 轉(zhuǎn)動(dòng) 機(jī)械反饋 帶動(dòng)齒 反饋圈 測(cè)角 電信號(hào)變化 電信號(hào)傳輸 一步進(jìn)電機(jī) 步進(jìn)電機(jī) 定位準(zhǔn)確 內(nèi)部設(shè)置 發(fā)射器 接收器 初定位 體積小 下齒盤(pán) 暗面 齒頂 齒根 亮面 射出 抬起 測(cè)試 監(jiān)測(cè) | ||
1.一種齒盤(pán)機(jī)械反饋圈測(cè)角實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于:其具體實(shí)施步驟如下:
A、在齒盤(pán)機(jī)械裝置內(nèi)活動(dòng)安裝有一個(gè)反饋圈,反饋圈為一個(gè)內(nèi)壁設(shè)有若干個(gè)A、在齒盤(pán)機(jī)械裝置的上齒盤(pán)內(nèi)安裝有一個(gè)反饋圈,反饋圈為一個(gè)內(nèi)壁設(shè)有若干個(gè)齒的內(nèi)齒輪,反饋圈的每個(gè)齒的齒頂面均為亮面,齒根面均為暗面;反饋圈的底部安裝在齒盤(pán)機(jī)械裝置的上齒盤(pán)的內(nèi)部端面上,反饋圈的外圈通過(guò)緊定螺釘與KD-504膠固定在上齒盤(pán)的內(nèi)圈上,同時(shí)反饋圈的外圈外壁與下齒盤(pán)的內(nèi)圈內(nèi)壁存在有間隙;
B、在反饋圈內(nèi)的中軸線上固定有一個(gè)反射式光電開(kāi)關(guān),反射式光電開(kāi)關(guān)安裝在下齒盤(pán)的內(nèi)部,反射式光電開(kāi)關(guān)中的發(fā)射器與接收器均同時(shí)對(duì)準(zhǔn)反饋圈中的一個(gè)亮面或暗面;反射式光電開(kāi)關(guān)中的發(fā)射器發(fā)出的光線經(jīng)過(guò)反饋圈的亮面反射后,由接收器接收,并通過(guò)導(dǎo)線送至齒盤(pán)機(jī)械裝置內(nèi)的控制器進(jìn)行處理;
C、在控制器的控制下,一個(gè)步進(jìn)電機(jī)帶動(dòng)齒盤(pán)機(jī)械裝置的上齒盤(pán)向上抬起,上齒盤(pán)向上脫離下齒盤(pán),另一步進(jìn)電機(jī)帶動(dòng)上齒盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng),反饋圈也隨著上齒盤(pán)一齊轉(zhuǎn)動(dòng),下齒盤(pán)和反射式光電開(kāi)關(guān)固定不動(dòng),反射式光電開(kāi)關(guān)的發(fā)射器射出的光線由齒頂?shù)牧撩孓D(zhuǎn)到齒根的暗面,即反饋圈的轉(zhuǎn)動(dòng)能使得反射式光電開(kāi)關(guān)得到的電信號(hào)發(fā)生變化,反射式光電開(kāi)關(guān)中的接收器接受的電信號(hào)也發(fā)生明顯變化,反射式光電開(kāi)關(guān)中的接收器將變化的電信號(hào)傳輸給控制器,控制器通過(guò)監(jiān)測(cè)反射式光電開(kāi)關(guān)的電信號(hào)變化,控制器按常規(guī)方法根據(jù)變化的次數(shù)準(zhǔn)確得到齒盤(pán)機(jī)械裝置所轉(zhuǎn)動(dòng)的角度,進(jìn)行準(zhǔn)確的初定位,實(shí)現(xiàn)齒盤(pán)機(jī)械裝置測(cè)角的目的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的齒盤(pán)機(jī)械反饋圈測(cè)角實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于:齒盤(pán)機(jī)械裝置內(nèi)為圓孔,則將反饋圈制成環(huán)形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的齒盤(pán)機(jī)械反饋圈測(cè)角實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于:齒盤(pán)機(jī)械裝置內(nèi)為方孔,則將反饋圈制成方形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于九江精達(dá)檢測(cè)技術(shù)有限公司,未經(jīng)九江精達(dá)檢測(cè)技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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