[發(fā)明專利]一種硅片圓片切割前準備工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811219598.8 | 申請日: | 2018-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN111070447A | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐志華;張彥;陳玲 | 申請(專利權(quán))人: | 江陰蘇陽電子股份有限公司 |
| 主分類號: | B28D5/00 | 分類號: | B28D5/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214400 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 硅片 切割 準備 工藝 | ||
本發(fā)明涉及一種硅片圓片切割前準備工藝,包括如下步驟:步驟1、根據(jù)產(chǎn)品名稱及劃片槽的大小確認劃片刀型號;步驟2、操作員在切割前應(yīng)該檢查載物臺。如果載物臺上有雜質(zhì),操作員應(yīng)該用氣槍吹去這些雜質(zhì);步驟3、點擊“刀片狀況資料”,讀取刀刃露出量;步驟4、純水檢測:檢查內(nèi)容:1.純水阻值2.純水PH值,頻率:每班一次,早晚班上班時進行。本發(fā)明的一種硅片圓片切割前準備工藝,再進行圓片切割前,對相關(guān)設(shè)備和圓片進行全方位的檢測,確保切割時的安全和切割的準確性,降低廢品發(fā)生率,降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及芯片切割行業(yè),具體涉及一種硅片圓片切割前準備工藝。
背景技術(shù)
隨著科技發(fā)展,電子產(chǎn)業(yè)突飛猛進,各種集成、控制電路需求急劇增長,對芯片封裝的需求也增長迅猛。
芯片封裝是指,將精密的半導(dǎo)體集成電路芯片安裝到框架上,然后利用引線將芯片與框架引腳相連接,最后用環(huán)氧樹脂將半導(dǎo)體集成電路芯片固封起來,外界通過引腳與內(nèi)部的芯片進行信號傳輸。封裝主要是對精密的半導(dǎo)體集成電路芯片進行固封,使半導(dǎo)體集成電路芯片在發(fā)揮作用的同時,不受外界濕度、灰塵的影響,同時提供良好的抗機械振動或沖擊保護,提高半導(dǎo)體集成電路芯片的適用性。同時封裝在金屬框架上,增加了散熱面積,提高了芯片的運行可靠性。
硅片在進行切割時,前期如果沒有對相應(yīng)的設(shè)備,產(chǎn)品進行準備,很容易照成后續(xù)出現(xiàn)廢品,這樣增加了企業(yè)的生產(chǎn)成本,現(xiàn)有技術(shù)中沒有相關(guān)工藝的詳細說明。
現(xiàn)需要一種硅片圓片切割前準備工藝,以期可以解決上述技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種硅片圓片切割前準備工藝,以彌補現(xiàn)有生產(chǎn)過程中的不足。
為了達到上述目的,本發(fā)明提供了一種硅片圓片切割前準備工藝,步驟如下:
步驟1、根據(jù)產(chǎn)品名稱及劃片槽的大小確認劃片刀型號;
步驟2、操作員在切割前應(yīng)該檢查載物臺,如果載物臺上有雜質(zhì),操作員應(yīng)該用氣槍吹去這些雜質(zhì);
步驟3、點擊“刀片狀況資料”, 讀取刀刃露出量,刀刃露出量小于刀刃最小露出量時,需更換劃片刀,刀刃最小露出量=圓片厚度+切入膜量+50um,若劃片刀露出量沒有達到規(guī)定的使用下限但刀痕不符合規(guī)范時也需要更換劃片刀;
步驟4、純水檢測: 檢查內(nèi)容:純水阻值 ; 純水PH值,頻率:每班一次,早晚班上班時進行。
優(yōu)選地,在進行硅片圓片切割前準備工藝時,操作員必須戴上防靜電手套、指套、防靜電腕帶。
優(yōu)選地,在步驟4中,純水發(fā)生處阻值要大于14 MΩ·cm,純水PH值正常范圍為6-8。
本發(fā)明的一種硅片圓片切割前準備工藝,再進行圓片切割前,對相關(guān)設(shè)備和圓片進行全方位的檢測,確保切割時的安全和切割的準確性,降低廢品發(fā)生率,降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。
具體實施方式
本發(fā)明主要針對芯片封裝過程中的裝片工序,提供了一種硅片圓片切割前準備工藝,具體步驟如下:
步驟1、根據(jù)產(chǎn)品名稱及劃片槽的大小確認劃片刀型號;
步驟2、操作員在切割前應(yīng)該檢查載物臺,如果載物臺上有雜質(zhì),操作員應(yīng)該用氣槍吹去這些雜質(zhì);
步驟3、點擊“刀片狀況資料”, 讀取刀刃露出量,刀刃露出量小于刀刃最小露出量時,需更換劃片刀,刀刃最小露出量=圓片厚度+切入膜量+50um,若劃片刀露出量沒有達到規(guī)定的使用下限但刀痕不符合規(guī)范時也需要更換劃片刀;
步驟4、純水檢測: 檢查內(nèi)容:純水阻值;純水PH值,頻率:每班一次,早晚班上班時進行。
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