[發明專利]納米粒子、顯示基板的制備方法及顯示裝置

有效

• 申請號: 201811215851.2
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN109378395B
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發明（設計）人: 陳卓;梅文海
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術開發有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/56;B82Y30/00
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;蔡麗

1.一種納米粒子，其特征在于，包括納米顆粒，以及

連接于所述納米顆粒表面的第一配體和第二配體；

所述第一配體具有堿溶性，所述第二配體受熱后可發生交聯；

所述第一配體包括酚羥基、酯基、氰基、9-芴甲氧羰基、和C1～C20的鹵代烴基中的一種或多種。

2.根據權利要求1所述的納米粒子，其特征在于，所述納米粒子為量子點，所述量子點包括無機核/殼結構的納米顆粒，所述第一配體和第二配體連接于所述無機核/殼結構納米顆粒的表面。

3.根據權利要求1或2所述的納米粒子，其特征在于，所述第二配體包括烴基、炔基和環氧基中的一種或多種。

4.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：將權利要求1～3任意一項所述的納米粒子涂布在基板上，形成納米粒子層；

步驟2：在所述納米粒子層上涂布正性光刻膠，前烘處理后，采用掩膜板對所述正性光刻膠進行曝光，使光刻膠形成光刻膠未保留區域和光刻膠保留區域；

步驟3：進行顯影處理，光刻膠未保留區域的光刻膠被完全去除，暴露出的納米粒子層溶于堿性顯影液中，脫離所述基板后被去除；

步驟4：進行后烘處理，所述光刻膠保留區域覆蓋的納米粒子的第二配體之間發生交聯反應，所述光刻膠保留區域覆蓋的納米粒子層固定在所述基板上；

步驟5：剝離所述光刻膠保留區域的光刻膠，完成納米粒子層的圖案化。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述納米粒子為量子點。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，采用旋涂法、夾縫式擠壓型涂布法、刮刀涂布法中的至少一種方式將所述量子點涂布在基板上。

7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，重復執行步驟1至步驟5，得到具有多種顏色的對應于多個發光亞像素的圖案化的量子點層。

8.根據權利要求4～7任意一項所述的制備方法，其特征在于，剝離所述光刻膠保留區域的光刻膠時，采用的剝離液為極性有機溶液。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求4～8中任意一項所述方法制備的顯示基板。