[發(fā)明專利]一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811213441.4 | 申請日: | 2018-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN109336608A | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孔杰;駱春佳;赫麗華;劉平桂;袁江龍 | 申請(專利權(quán))人: | 西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | C04B35/565 | 分類號: | C04B35/565 |
| 代理公司: | 西安銘澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 李振瑞 |
| 地址: | 710072 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸波材料 陶瓷基 制備 聚合物 含鈷 電磁波吸收 轉(zhuǎn)化 陶瓷基復(fù)合材料 制備技術(shù)領(lǐng)域 八羰基二鈷 富碳聚合物 四氫呋喃 吸波性能 前驅(qū)體 潛在的 裂解 按摩 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開了一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料及其制備方法,屬于陶瓷基復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域,該含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料由八羰基二鈷和富碳聚合物前驅(qū)體按摩爾比5~10:100在四氫呋喃中反應(yīng),然后在1100~1200℃高溫下裂解轉(zhuǎn)化得到。本發(fā)明制備方法簡單,操作簡便,且通過本發(fā)明制備的陶瓷基吸波材料具有優(yōu)異的吸波性能,其最低電磁波吸收系數(shù)為?42.43dB,在電磁波吸收領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于陶瓷基復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料及其制備方法。
背景技術(shù)
聚合物熱解轉(zhuǎn)化陶瓷可方便通過前驅(qū)體分子組成和結(jié)構(gòu)的設(shè)計,得到組成和結(jié)構(gòu)可“裁剪”的熱解陶瓷,通過對熱解條件的控制可以得到設(shè)計所需的陶瓷組成和相疇尺寸。Yin等研究表明PDCs-SiC陶瓷中形成SiC納米晶和自由碳的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)是導(dǎo)致介電常數(shù)和電導(dǎo)率增加的主要原因,復(fù)介電常數(shù)實部、虛部、損耗角正切值、電導(dǎo)率分別達(dá)到8.5、10.2和1.24,1.4S/m,RC值在X波段內(nèi)小于-8dB。當(dāng)采用二茂鐵對前驅(qū)體(聚硅碳烷)進(jìn)行改性后,F(xiàn)e催化原位生成碳納米線、石墨碳等高介電損耗相,在X波段范圍內(nèi)具有更好的吸波性能。在PDC-SiOC基體中通過二茂鐵催化可原位自生出SiC納米線,使陶瓷的介電常數(shù)實部和虛部分別從3.63和0.14增大到10.72和12.17,最小反射系數(shù)從-1.22dB降低到-20.01dB,說明原位自生SiC納米線可有效改善陶瓷基體的吸波性能。但是通過目前的聚合物前驅(qū)體法制備的SiC吸波陶瓷性能并不是很好。因此本發(fā)明通過制備主鏈含有炔基的富碳聚合物前驅(qū)體,并通過八羰基二鈷(Co2(CO)8)和制備得到的前驅(qū)體主鏈上的炔基反應(yīng)在原子結(jié)構(gòu)上引入鈷元素,裂解得到吸波性能優(yōu)異的含鈷元素的碳化硅陶瓷Co-SiC。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料及其制備方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料,其特征在于,所述含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料由八羰基二鈷和富碳聚合物前驅(qū)體按摩爾比5~10:100在四氫呋喃中反應(yīng),然后在1100~1200℃高溫下裂解轉(zhuǎn)化得到;所述富碳聚合物前驅(qū)體具有如式(Ⅰ)所示的結(jié)構(gòu),
其中:n為28~66,富碳聚合物前驅(qū)體的數(shù)均分子量為3000~7000。
優(yōu)選地,陶瓷基吸波材料的吸波量為-42.43dB。
本發(fā)明的另一技術(shù)方案是提供上述一種含鈷聚合物轉(zhuǎn)化陶瓷基吸波材料的制備方法,包括以下步驟:
S1、富碳聚合物前驅(qū)體的合成:
將四氫呋喃和正丁基鋰加入到反應(yīng)容器中冷卻至-80~-75℃,在攪拌條件下加入六氯1,3-丁二烯,升溫至室溫,繼續(xù)攪拌,再冷卻至-80~-75℃,加入二氯二甲基硅烷,升溫至室溫,接著攪拌,加入三甲基氯硅烷進(jìn)行封端反應(yīng),反應(yīng)0.5~1.5h后,去除四氫呋喃,加入甲苯溶解并過濾,濾液加入甲醇沉淀,得到沉淀物,然后將沉淀物真空干燥,得到富碳聚合物前驅(qū)體;
S2、含鈷聚合物的合成:
將八羰基二鈷和S1得到的富碳聚合物前驅(qū)體加入到裝有四氫呋喃的反應(yīng)容器中,在室溫下攪拌反應(yīng),接著將四氫呋喃減壓旋蒸,加入乙腈沉淀,得到沉淀物,然后將沉淀物真空干燥,即得到含鈷聚合物,其中八羰基二鈷和富碳聚合物前驅(qū)體的摩爾比為5~10:100;
S3、陶瓷基吸波材料的合成:
將S2得到的含鈷聚合物在惰性氣體氛圍條件下,于300~500℃下反應(yīng)1~3h,接著在1100~1200℃高溫下裂解3~6h,裂解結(jié)束后冷卻至室溫,即得到陶瓷基吸波材料。
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