[發明專利]帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法

在審

• 申請號: 201811213408.1
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN109696805A
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 中山貴仁
• 申請（專利權）人: 紐富來科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種帶電粒子束描繪裝置，其中，

具備：

描繪部，對載置于平臺的描繪對象的基板照射帶電粒子束來描繪圖案；

標記，設置于所述平臺之上；

高度檢測器，檢測所述標記的表面高度；

焦點調整部，將所述帶電粒子束合焦至所述基板的表面高度及檢測出的所述標記的表面高度來進行調整；

照射位置檢測器，通過合焦至所述標記的表面高度的所述帶電粒子束的照射，檢測所述標記表面上的所述帶電粒子束的照射位置；

漂移修正部，從通過所述照射位置檢測器檢測出的所述照射位置來計算所述標記表面上的所述帶電粒子束的漂移量，基于該漂移量，生成修正所述基板表面的漂移導致的照射位置偏移的修正信息；及

描繪控制部，使用所述修正信息，修正所述帶電粒子束的照射位置。

2.如權利要求1所述的帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，

所述焦點調整部控制物鏡來調整所述帶電粒子束的焦點位置。

3.如權利要求1所述的帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，

所述焦點調整部控制所述平臺來調整所述基板的表面高度及所述標記的表面高度。

4.如權利要求1所述的帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，

照射于所述標記的所述帶電粒子束的束流軸傾斜。

5.一種帶電粒子束描繪方法，使用設置于平臺之上的標記來調整帶電粒子束，對載置于所述平臺之上的描繪對象的基板照射所述帶電粒子束來描繪圖案，具備：

檢測所述標記的表面高度的工序；

使所述帶電粒子束合焦至所述標記的表面高度來照射所述帶電粒子束，檢測所述標記的表面的所述帶電粒子束的照射位置的工序；

從檢測出的所述照射位置來計算所述標記表面的所述帶電粒子束的漂移量的工序；及

基于所述漂移量來修正所述帶電粒子束的照射位置的工序。

6.如權利要求5所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，

在對所述標記照射所述帶電粒子束前，用物鏡使所述帶電粒子束合焦至所述標記的表面。

7.如權利要求5所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，

在對所述標記照射所述帶電粒子束之前，控制所述平臺以使所述帶電粒子束合焦至所述標記的表面高度。

8.如權利要求5所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，

對所述標記照射所述帶電粒子束之后，使所述帶電粒子束合焦至所述基板的表面。

9.如權利要求5所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，

照射所述標記的所述帶電粒子束的束流軸傾斜。