[發明專利]開放式滾鍍裝置及電鍍系統在審
| 申請號: | 201811211173.2 | 申請日: | 2018-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN109355691A | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發明(設計)人: | 張軍 | 申請(專利權)人: | 昆山東威電鍍設備技術有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/22 | 分類號: | C25D17/22 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 張樂樂 |
| 地址: | 215347 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 端板 滾筒帶 滾鍍裝置 電鍍系統 轉動 第一腔體 非圓結構 驅動機構 外周表面 運動軌跡 周向內壁 轉動過程 敞開口 電鍍液 均勻性 可轉動 外周面 位置處 支撐力 電鍍 凹陷 抖動 抵接 基架 外周 對稱 驅動 | ||
本發明公開一種開放式滾鍍裝置及電鍍系統,開放式滾鍍裝置包括至少兩個端板、滾筒帶、驅動機構,端板對稱且可轉動地設置在基架上;滾筒帶的部分外周面繞在所述端板的外周上,以在兩個所述端板之間并結合所述滾筒帶朝向所述端板一側圍成的凹陷形成具有敞開口的第一腔體;驅動機構驅動所述滾筒帶轉動以帶動所述端板轉動。電鍍系統包括上述的開放式滾鍍裝置。端板呈非圓結構沿其轉動方向的外周表面在轉動過程中始終抵接在第一腔體的周向內壁面上,非圓結構的運動軌跡不呈圓形,而是不斷地變化中,其對滾筒帶的支撐力也在不斷地變化,從而帶動滾筒帶和工件抖動,工件的不同位置處的表面都能夠接觸到電鍍液,從而來提高工件的電鍍的均勻性。
技術領域
本發明涉及電鍍技術領域,具體涉及一種開放式滾鍍裝置及電鍍系統。
背景技術
滾鍍即滾筒電鍍,是將一定數量的工件放置在滾鍍桶內的內腔中,在滾桶轉動下,使得工件不斷地對電鍍槽內的電鍍液接觸,在工件表面上沉積所需厚度的金屬層或合金鍍層,以達到對工件表面的防護和其他功能的目的。
例如,如圖1所示,現有技術中的滾鍍桶包括控制系統a11、機架a12,機架a12上可轉動地設置有主動軸a16和被動軸a17,兩端分別套設在主動軸a16和被動軸a17上的滾桶架a13;繞在主動軸a16和被動軸a17上并位于滾桶架a13內的滾桶帶a15,以將滾桶帶a15可轉動地安裝在機架上;滾桶帶a15前側的外周面繞在兩個圓形擋板a14外,兩個圓形擋板a14、滾桶帶a15面向圓形擋板a14一側壁面之間圍成凹陷,以形成具有敞開口的滾鍍腔體。
此結構的滾鍍桶在對工件進行電鍍時,工件放置在滾鍍腔體內,電機驅動主動軸帶動滾桶帶沿正向轉動,滾桶帶轉動時以帶動圓心固定在滾桶架上的圓形擋板轉動,圓形擋板轉動時,其轉動的外周表面平穩地支撐滾桶帶,使得滾桶帶在滾鍍架上平穩地轉動,滾鍍腔體的位置保持平穩,滾鍍腔體內的相鄰工件之間一直保持平穩地轉動,相鄰工件之間的關系不易被打破,工件與電鍍液接觸的表面不能隨著轉動而改變,從而影響工件不同位置處的表面被電鍍的程度不一致,影響工件電鍍的均勻性。
發明內容
因此,本發明所要解決的技術問題在于現有滾鍍桶在電鍍工件時,工件與電鍍液接觸的表面不能隨著轉動而改變,導致工件不同位置處的表面被電鍍的均勻性差。
為此,本發明提供一種開放式滾鍍裝置,包括
至少兩個端板,其中兩個所述端板對稱且可轉動地設置在基架上;
滾筒帶,呈環形,其部分外周面繞在所述端板的外周上,以在兩個所述端板之間并結合所述滾筒帶朝向所述端板一側圍成的凹陷形成具有敞開口的第一腔體;
驅動機構,帶動所述滾筒帶及所述端板轉動;
所述端板呈非圓結構并且沿其轉動方向的外周壁面適于抵接在所述第一腔體的周向內壁面上,以在轉動時帶動所述滾筒帶抖動。
可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述非圓結構包括圓形本體和徑向凸出成型在所述圓形本體的周向外壁面上的至少一個凸出部。
進一步可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述非圓結構為多邊形板塊,所述多邊形板塊的每個角的端部作為一個所述凸出部。
可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述多邊形板塊為正多邊形板塊。
可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述滾筒帶的外周一圈壁面上設有供所述端板轉動在所述第一腔體的周向內壁面處的外周端部滑入的滑槽。
可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述端板的外周壁面上凸出設有與其外形一致且適于滑入所述滑槽內的外沿。
可選地,上述的開放式滾鍍裝置,所述端板通過活動設置在所述基架上且位于所述滾筒帶外的支撐板而設置在所述基架上。
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