[發(fā)明專利]開放式滾鍍裝置及電鍍系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811211173.2
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN109355691A
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發(fā)明（設計）人: 張軍
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山東威電鍍設備技術(shù)有限公司
• 主分類號: C25D17/22
• 分類號: C25D17/22
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 張樂樂

1.一種開放式滾鍍裝置，包括

至少兩個端板(2)，其中兩個所述端板(2)對稱且可轉(zhuǎn)動地設置在基架(4)上；

滾筒帶(1)，呈環(huán)形，其部分外周面繞在所述端板(2)的外周上，以在兩個所述端板(2)之間并結(jié)合所述滾筒帶(1)朝向所述端板(2)一側(cè)圍成的凹陷形成具有敞開口(12)的第一腔體(11)；

驅(qū)動機構(gòu)(8)，帶動所述滾筒帶(1)及所述端板(2)轉(zhuǎn)動；

其特征在于，所述端板(2)呈非圓結(jié)構(gòu)并且沿其轉(zhuǎn)動方向的外周壁面適于抵接在所述第一腔體(11)的周向內(nèi)壁面上，以在轉(zhuǎn)動時帶動所述滾筒帶(1)抖動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述非圓結(jié)構(gòu)包括圓形本體和徑向凸出成型在所述圓形本體的周向外壁面上的至少一個凸出部(21)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述非圓結(jié)構(gòu)為多邊形板塊，所述多邊形板塊的每個角的端部作為一個所述凸出部(21)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述多邊形板塊為正多邊形板塊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述滾筒帶(1)的外周一圈壁面上設有供所述端板(2)轉(zhuǎn)動在所述第一腔體(11)的周向內(nèi)壁面處的外周端部滑入的滑槽(111)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述端板(2)的外周壁面上凸出設有與其外形一致且適于滑入所述滑槽(111)內(nèi)的外沿(211)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述端板(2)通過活動設置在所述基架(4)上且位于所述滾筒帶(1)外的支撐板(3)而設置在所述基架(4)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述基架(4)上設有豎向延伸的第一長腰孔(41)；所述端板(2)與所述支撐板(3)通過連接軸固定連接；

所述支撐板(3)上固定有適于伸入所述第一長腰孔(41)內(nèi)第一連接軸(51)，以及位于所述第一長腰孔(41)下方且傾斜的第二長腰孔(31)，所述第二長腰孔(31)套在所述基架(4)上的第二連接軸或所述滾筒帶(1)的被動軸上。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，還包括設置在所述滾筒帶(1)的環(huán)形內(nèi)腔中且彎曲弧度與所述第一腔體(11)的彎曲弧度適應的至少一個弧形支架(73)；以及

設置在所述弧形支架(73)上的至少一個第三連接軸(52)，所述第三連接軸(52)的端部伸出所述滾筒帶(1)外連接于所述支撐板(3)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述滾筒帶(1)由至少三個鏈板首尾鉸接連接以形成環(huán)形。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，還包括可轉(zhuǎn)動地設置在所述基架(4)上且位于所述敞開口(12)處的出料板(6)；所述非圓結(jié)構(gòu)沿其轉(zhuǎn)動方向的外周壁面的至少一部分與所述出料板(6)面向所述第一腔體(11)一側(cè)的內(nèi)壁面相切設置。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的開放式滾鍍裝置，其特征在于，所述出料板(6)嵌入所述敞開口(12)內(nèi)；

所述出料板(6)背向所述第一腔體(11)一側(cè)的外壁面上固定有第四連接軸(53)，所述第四連接軸(53)的兩端分別伸出各自靠近的所述端板(2)外并可轉(zhuǎn)動地設置在所述基架(4)上，所述出料板(6)通過所述第四連接軸(53)與所述非圓結(jié)構(gòu)的外周壁面相切設置。