[發(fā)明專利]框架及框架的表面處理方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811210490.2
• 申請(qǐng)日: 2018-10-17
• 公開（公告）號(hào): CN111054612A
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姜傳華;戴禎儀;肖飛龍;管俊;程宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富智康精密電子（廊坊）有限公司
• 主分類號(hào): B05D7/14
• 分類號(hào): B05D7/14;B05D7/00;B05D5/06;C23C14/22;C23C14/12;C23C14/16
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334
• 代理人: 李艷霞;薛曉偉

1.一種框架，包括基材及形成于所述基材表面的涂層，其特征在于：所述基材的表面依次形成第一底漆層、第二底漆層、真空不導(dǎo)電電鍍底漆層與真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其特征在于，所述真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層的表面還設(shè)置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設(shè)置有面漆層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其特征在于，所述真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層的表面還設(shè)置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設(shè)置有光鍍層，所述光鍍層的表面還設(shè)置有面漆層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其特征在于，所述基材為鋁合金、鋅合金、鋁鎂合金或鈦合金，所述基材是將金屬粉末壓鑄成型所制成，所述基材表面形成有多個(gè)納米孔洞。

5.一種框架的表面處理方法，其特征在于，包括步驟：

提供一基材；

于所述基材的一表面形成第一底漆層；

于所述第一底漆層表面形成第二底漆層；

于所述第二底漆層表面形成真空不導(dǎo)電電鍍底漆層；及

于所述真空不導(dǎo)電電鍍底漆層形成真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的框架的表面處理方法，其特征在于，所述真空不導(dǎo)電電鍍底漆層是采用真空不導(dǎo)電電鍍技術(shù)于所述第二底漆層表面噴涂UV漆，經(jīng)過800～1000mj/cm²的紫外光照射，烘烤溫度為50-60℃，烘烤時(shí)間為10-15min，固化以形成所述真空不導(dǎo)電電鍍底漆層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的框架的表面處理方法，其特征在于，所述真空不導(dǎo)電電鍍底漆層的厚度為6-10μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的框架的表面處理方法，其特征在于，所述真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層的厚度為50-200nm，材質(zhì)為銦或錫。

9.根據(jù)權(quán)利要求8述的框架的表面處理方法，其特征在于，還包括步驟：依次于所述真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層表面形成中漆和色漆層與面漆層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的框架的表面處理方法，其特征在于，還包括步驟：依次于所述真空不導(dǎo)電電鍍鍍膜層表面形成中漆和色漆層、光鍍層與面漆層，其中所述光鍍層的材料為二氧化硅或二氧化鈦。