[發(fā)明專利]保護(hù)環(huán)組件及具有該組件的等離子體注入裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811209000.7
• 申請(qǐng)日: 2018-10-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111063602A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/32;H01J37/317
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

1.一種保護(hù)環(huán)組件，安裝于等離子體注入裝置中，所述等離子體注入裝置具有處理腔室，其特征在于，所述保護(hù)環(huán)組件包括：

本體，呈環(huán)狀結(jié)構(gòu)，且具有分別朝向和背向所述處理腔室的安裝表面和外表面，所述本體開(kāi)設(shè)有多條貫穿所述安裝表面和所述外表面的狹縫，所述狹縫被配置為供等離子體穿過(guò)，所述安裝表面開(kāi)設(shè)有多個(gè)安裝孔槽；以及

多個(gè)安裝螺絲，可拆裝地設(shè)于所述處理腔室，所述安裝螺絲具有露出于所述處理腔室的螺帽，所述螺帽外周設(shè)有卡環(huán)，所述卡環(huán)的外徑大于所述安裝孔槽的孔徑；

其中，所述安裝螺絲的所述螺帽被配置為卡入所述安裝孔槽中，且所述卡環(huán)過(guò)盈配合于所述安裝孔槽的槽壁。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述本體的介于其外表面與所述安裝孔槽的槽底之間的部分的厚度大于1毫米。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述本體的介于其外表面與所述安裝孔槽的槽底之間的部分的厚度為3毫米～5毫米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述安裝螺絲的螺帽外周設(shè)有環(huán)形凹槽，所述卡環(huán)設(shè)于所述環(huán)形凹槽，且所述卡環(huán)的外周露出于所述螺帽的外周。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，每個(gè)所述安裝螺絲的所述螺帽外周設(shè)有多個(gè)所述卡環(huán)，多個(gè)所述卡環(huán)沿所述安裝螺絲的軸向間隔分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述卡環(huán)的材質(zhì)為橡膠。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，多條所述狹縫與多個(gè)所述安裝孔槽在所述本體所對(duì)應(yīng)的環(huán)狀路徑上間隔均勻地交替分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述本體上開(kāi)設(shè)有四條狹縫，四條所述狹縫在所述本體所對(duì)應(yīng)的環(huán)狀路徑上間隔均勻分布。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的保護(hù)環(huán)組件，其特征在于，所述本體的安裝表面開(kāi)設(shè)有四個(gè)所述安裝孔槽，四個(gè)所述安裝孔槽在所述本體所對(duì)應(yīng)的環(huán)狀路徑上間隔均勻分布。

10.一種等離子體注入裝置，具有處理腔室，所述處理腔室設(shè)有保護(hù)環(huán)，其特征在于，所述保護(hù)環(huán)為權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述的保護(hù)環(huán)組件。