[發(fā)明專利]一種利用PMOS工藝偏差的弱物理不可克隆函數(shù)電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811207852.2 | 申請日: | 2018-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN109241782B | 公開(公告)日: | 2021-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 汪鵬君;李剛;張會紅;張躍軍 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波大學(xué) |
| 主分類號: | G06F21/73 | 分類號: | G06F21/73 |
| 代理公司: | 寧波奧圣專利代理有限公司 33226 | 代理人: | 方小惠 |
| 地址: | 315211 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 pmos 工藝 偏差 物理 不可 克隆 函數(shù) 電路 | ||
本發(fā)明公開了一種利用PMOS工藝偏差的弱物理不可克隆函數(shù)電路,包括譯碼電路、時序控制電路、PUF單元陣列和n個共享腳電路,PUF單元陣列由m×n個PUF單元按照m行n列的方式排布形成,PUF單元包括第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管和第四PMOS管且四個PMOS管的寬長比均為TSMC 65nm工藝下的最小尺寸:120nm/60nm,每個共享腳電路分別包括第一NMOS管、第二NMOS管、第三NMOS管、第四NMOS管、第一二輸入與非門和第二二輸入與非門,四個NMOS管的寬長比的取值范圍為:2um/60nm~8um/60nm;優(yōu)點是在具有復(fù)位功能的基礎(chǔ)上,面積較小,功耗較低,且時延較小,速度快。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種物理不可克隆函數(shù)電路,尤其是涉及一種利用PMOS工藝偏差的弱物理不可克隆函數(shù)電路。
背景技術(shù)
物理不可克隆函數(shù)(PUF)可在芯片物理層面保障信息安全,因此受到了越來越多的關(guān)注。物理不可克隆函數(shù)電路是一種非常有前途的嵌入式密鑰產(chǎn)生電路,其通過捕捉PUF單元的隨機工藝偏差,可產(chǎn)生一系列具有隨機性、唯一性和不可克隆性的輸出密鑰。這些輸出密鑰可應(yīng)用于信息安全領(lǐng)域,如密鑰生成、設(shè)備認(rèn)證和IP保護等。
目前,物理不可克隆函數(shù)電路通常分為兩大類:弱PUF電路和強PUF電路。弱PUF電路中,每個PUF單元通常產(chǎn)生一位輸出響應(yīng),各個PUF單元的輸出響應(yīng)間可認(rèn)為是相互獨立的。強PUF電路中,由于PUF單元的重構(gòu),使得各個PUF單元的輸出響應(yīng)之間存在一定的相關(guān)性。因此弱PUF電路比強PUF具有更好的抗攻擊能力。
在現(xiàn)有的眾多弱PUF電路的設(shè)計方案中,文獻1(D.E.Holcomb,et al.:“Power-upSRAM state as an identifying fingerprint and source of true random numbers,”IEEE Transactions on Computers 58(2009)1198(DOI:10.1109/TC.2008.212).)公開的SRAM-PUF是一·最典型的弱PUF電路,它利用SRAM-PUF單元的上電初始值作為PUF電路的輸出密鑰,SRAM-PUF單元的性能直接決定了弱PUF電路的性能。文獻1中公開了一種SRAM-PUF單元,其電路結(jié)構(gòu)如圖1(a)所示。文獻2(Y.Su,et al.:“A digital 1.6pJ/bit chipidentification circuit using process variations,”IEEE Journal of Solid-StateCircuits 43(2008)69(DOI:10.1109/JSSC.2007.910961).)中也公開了一種帶有·位功能的SRAM-PUF單元,其電路結(jié)構(gòu)如如1(b)所示。這兩種SRAM-PUF單元核心結(jié)構(gòu)均是用于捕捉工藝偏差的一對交叉耦合的反相器。對于文獻1中的SRAM-PUF單元:當(dāng)SRAM掉電后,節(jié)點Q/QB放電到‘0/0’;當(dāng)SRAM上電時,節(jié)點Q/QB從‘0/0’狀態(tài)迅速過渡到‘0/1’或‘1/0’的穩(wěn)態(tài),至于過渡到哪一·狀態(tài)取決于交叉耦合反相器的隨機工藝偏差。對于文獻2中帶有·位端的SRAM-PUF單元:當(dāng)RST為低電平時,節(jié)點Q/QB被拉到‘0/0’狀態(tài);當(dāng)RST由低電平變?yōu)楦唠娖綍r,節(jié)點Q/QB將從‘0/0’狀態(tài)迅速過渡到‘0/1’或‘1/0’的穩(wěn)態(tài),至于過渡到哪一·狀態(tài)取決于交叉耦合反相器的隨機工藝偏差。
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