[發明專利]顯示面板、發光材料蒸鍍方法以及裝置

在審

• 申請號: 201811207832.5
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN109411603A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 程薇
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明提供一種顯示面板、發光材料蒸鍍方法以及裝置，該方法包括對齊掩膜板與陣列基板，生成覆蓋陣列基板的電場，對發光材料進行處理，生成發光材料帶電粒子；發光材料帶電粒子穿過掩膜板后，在電場的作用下沉積在陣列基板的像素區域；這樣通過提供覆蓋陣列基板的電場，并生成發光材料帶電粒子，這些發光材料帶電粒子在穿過掩膜板后，在電場的作用下將改變運動方向，沿著電場方向垂直的向陣列基板的像素區域移動，然后均勻的沉積在陣列基板的像素區域，而不會沿原始運動方向沉積在像素臨界位置，也不會沉積在其他位置，保證了發光材料的成膜均一性，解決了現有顯示面板存在的子像素臨界位置的發光材料成膜均一性不佳的技術問題。

技術領域

本發明涉及顯示領域，尤其涉及一種顯示面板、發光材料蒸鍍方法以及裝置。

背景技術

在制造OLED顯示面板時，目前大多先制作Array基板，然后通過蒸鍍工藝將發光材料蒸鍍到Array基板的像素區域。

現在蒸鍍工藝如圖1所示，將掩膜板Mask與Array基板對齊，然后蒸鍍源對內部的發光材料進行蒸鍍，但是在R/G/B子像素的臨界位置，受制于Mask陰影影響，會出發光材料，如Electroluminescent(EL)材料成膜均一性不佳的現象，導致子像素的臨界位置存在色偏或混色問題。

即，現有顯示面板存在子像素臨界位置的發光材料成膜均一性不佳的技術問題。

發明內容

本發明提供一種顯示面板、發光材料蒸鍍方法以及裝置，以解決現有顯示面板存在的子像素臨界位置的發光材料成膜均一性不佳的技術問題。

為解決上述問題，本發明提供的技術方案如下：

本發明實施例提供了一種發光材料蒸鍍方法，其包括:

對齊掩膜板與陣列基板；

生成覆蓋所述陣列基板的電場；

對發光材料進行處理，生成發光材料帶電粒子；所述發光材料帶電粒子穿過所述掩膜板后，在所述電場的作用下沉積在所述陣列基板的像素區域。

在本發明的發光材料蒸鍍方法中，所述生成覆蓋所述陣列基板的電場的步驟包括：

將所述掩膜板接地；

將電場電極通電，所述電場電極與所述掩膜板平行，所述陣列基板位于所述電場電極與所述掩膜板之間。

在本發明的發光材料蒸鍍方法中，所述生成發光材料帶電粒子的步驟包括：

發光材料蒸發源輸出發光材料粒子；

控制所述發光材料粒子帶特定極性的電荷。

在本發明的發光材料蒸鍍方法中，還包括：向所述陣列基板的電路供電，以中和沉積在像素位置的所述發光材料帶電粒子的電荷。

在本發明的發光材料蒸鍍方法中，還包括：向設置在所述陣列基板像素定義層表面上的導電柱供電，以避免所述發光材料帶電粒子沉積在所述導電柱上。

本發明實施例提供了一種顯示面板，其包括:陣列基板、位于所述陣列基板上的像素定義層、位于所述像素定義層所定義像素區域內的發光材料層，所述發光材料層通過本發明提供的發光材料蒸鍍方法形成。

在本發明的顯示面板中，還包括設置在所述陣列基板像素定義層表面上的導電柱。

本發明實施例提供了一種發光材料蒸鍍裝置，其包括:

對齊模塊，用于對齊掩膜板與陣列基板；

電場模塊，用于生成覆蓋所述陣列基板的電場；