[發明專利]顯示面板、發光材料蒸鍍方法以及裝置

在審

• 申請號: 201811207832.5
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN109411603A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 程薇
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種發光材料蒸鍍方法，其特征在于，包括:

對齊掩膜板與陣列基板；

生成覆蓋所述陣列基板的電場；

對發光材料進行處理，生成發光材料帶電粒子；所述發光材料帶電粒子穿過所述掩膜板后，在所述電場的作用下沉積在所述陣列基板的像素區域。

2.根據權利要求1所述的發光材料蒸鍍方法，其特征在于，所述生成覆蓋所述陣列基板的電場的步驟包括：

將所述掩膜板接地；

將電場電極通電，所述電場電極與所述掩膜板平行，所述陣列基板位于所述電場電極與所述掩膜板之間。

3.根據權利要求1所述的發光材料蒸鍍方法，其特征在于，所述生成發光材料帶電粒子的步驟包括：

發光材料蒸發源輸出發光材料粒子；

控制所述發光材料粒子帶特定極性的電荷。

4.根據權利要求1至3任一項所述的發光材料蒸鍍方法，其特征在于，還包括：向所述陣列基板的電路供電，以中和沉積在像素位置的所述發光材料帶電粒子的電荷。

5.根據權利要求4所述的發光材料蒸鍍方法，其特征在于，還包括：向設置在所述陣列基板像素定義層表面上的導電柱供電，以避免所述發光材料帶電粒子沉積在所述導電柱上。

6.一種顯示面板，其特征在于，包括:陣列基板、位于所述陣列基板上的像素定義層、位于所述像素定義層所定義像素區域內的發光材料層，所述發光材料層通過如權利要求1至5任一項所述的發光材料蒸鍍方法形成。

7.根據權利要求6所述的顯示面板，其特征在于，還包括設置在所述陣列基板像素定義層表面上的導電柱。

8.一種發光材料蒸鍍裝置，其特征在于，包括:

對齊模塊，用于對齊掩膜板與陣列基板；

電場模塊，用于生成覆蓋所述陣列基板的電場；

帶電離子模塊，用于對發光材料進行處理，生成發光材料帶電粒子；所述發光材料帶電粒子穿過所述掩膜板后，在所述電場的作用下沉積在所述陣列基板的像素區域。

9.根據權利要求8所述的發光材料蒸鍍裝置，其特征在于，還包括電場電極，所述電場電極與所述掩膜板平行。

10.根據權利要求8或9所述的發光材料蒸鍍裝置，其特征在于，還包括供電模塊，用于向所述陣列基板的電路供電，或者用于向設置在所述陣列基板像素定義層表面上的導電柱供電。