[發(fā)明專利]用于檢測(cè)光掩模和裸片中的缺陷的檢查設(shè)備及檢查方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811197090.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109752390A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李剛源;閔徹基;樸鍾主;宋弦昔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星電子株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/95 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/95;G01N21/956 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 劉美華;韓芳 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 參考圖像 檢查圖像 檢查區(qū)域 檢查設(shè)備 坐標(biāo)偏移 光掩模 檢測(cè)光 裸片 掩模 配置 缺陷檢查設(shè)備 操作處理器 圖像檢查器 設(shè)計(jì)布局 數(shù)據(jù)產(chǎn)生 產(chǎn)生器 檢查 | ||
1.一種缺陷檢查設(shè)備,所述缺陷檢查設(shè)備包括:
參考圖像產(chǎn)生器,被配置為從設(shè)計(jì)布局?jǐn)?shù)據(jù)產(chǎn)生第一參考圖像和第二參考圖像;
圖像檢查器,被配置為獲得光掩模的第一檢查區(qū)域的第一檢查圖像和所述光掩模的第二檢查區(qū)域的第二檢查圖像;以及
操作處理器,被配置為通過(guò)將所述第一檢查圖像與所述第一參考圖像進(jìn)行比較來(lái)提取第一坐標(biāo)偏移,并且通過(guò)將所述第二檢查圖像與所述第二參考圖像進(jìn)行比較來(lái)提取第二坐標(biāo)偏移。
2.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢查設(shè)備,其中,所述第一參考圖像和所述第二參考圖像均包括比所述第一檢查圖像和所述第二檢查圖像的像素小的像素。
3.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢查設(shè)備,其中,所述操作處理器還被配置為將所述第一檢查圖像和所述第二檢查圖像對(duì)齊以偏移達(dá)從所述第一坐標(biāo)偏移和所述第二坐標(biāo)偏移提取的對(duì)齊偏移,然后以裸片對(duì)裸片的方式將所述第一檢查圖像與所述第二檢查圖像進(jìn)行比較。
4.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢查設(shè)備,其中,所述操作處理器還被配置為從所述第一檢查圖像的灰度級(jí)數(shù)據(jù)和所述第二檢查圖像的灰度級(jí)數(shù)據(jù)中提取灰度級(jí)差值,并且通過(guò)將所述灰度級(jí)差值與預(yù)定的閾值進(jìn)行比較來(lái)確定所述第二檢查區(qū)域中是否存在缺陷。
5.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢查設(shè)備,其中,所述圖像檢查器包括:
分光器,將從光源發(fā)射的光分為透射路徑和反射路徑;以及
光學(xué)傳感器,被配置為接收已穿過(guò)所述光掩模的光和已被所述光掩模反射的光。
6.一種檢查在檢查對(duì)象中的缺陷的方法,所述方法包括:
從與所述檢查對(duì)象有關(guān)的設(shè)計(jì)布局?jǐn)?shù)據(jù)產(chǎn)生第一參考圖像和第二參考圖像;
獲得所述檢查對(duì)象的第一檢查圖像和第二檢查圖像;
通過(guò)將所述第一檢查圖像與所述第一參考圖像進(jìn)行比較來(lái)提取第一坐標(biāo)偏移;
通過(guò)將所述第二檢查圖像與所述第二參考圖像進(jìn)行比較來(lái)提取第二坐標(biāo)偏移;
使用所述第一坐標(biāo)偏移和所述第二坐標(biāo)偏移以裸片對(duì)裸片的方式將所述第一檢查圖像與所述第二檢查圖像進(jìn)行比較;以及
基于所述第一檢查圖像和所述第二檢查圖像的比較來(lái)確定在所述第二檢查圖像中是否存在缺陷。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其中,將所述第一檢查圖像與所述第二檢查圖像進(jìn)行比較的步驟包括:
使用從所述第一坐標(biāo)偏移和所述第二坐標(biāo)偏移提取的對(duì)齊偏移來(lái)對(duì)齊所述第一檢查圖像和所述第二檢查圖像;以及
從所述第一檢查圖像的灰度級(jí)數(shù)據(jù)和所述第二檢查圖像的灰度級(jí)數(shù)據(jù)中提取灰度級(jí)差值。
8.如權(quán)利要求7所述的方法,其中,確定是否存在缺陷的步驟包括將所述灰度級(jí)差值與預(yù)定的閾值進(jìn)行比較。
9.如權(quán)利要求6所述的方法,其中,獲得所述第一檢查圖像和所述第二檢查圖像的步驟包括:
安裝包括第一裸片和鄰近于第一裸片設(shè)置的第二裸片的光掩模;
對(duì)齊所述光掩模;
將光指向到所述第一裸片上;以及
將光指向到所述第二裸片上。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,其中,從所述第一裸片的區(qū)域獲得所述第一檢查圖像,從所述第二裸片的區(qū)域獲得所述第二檢查圖像。
11.如權(quán)利要求6所述的方法,其中,通過(guò)將所述第一檢查圖像與所述第一參考圖像進(jìn)行比較來(lái)提取所述第一坐標(biāo)偏移的步驟包括:
對(duì)齊所述第一檢查圖像和所述第一參考圖像,并且提取設(shè)置在所述第一檢查圖像的左下角處的第一頂點(diǎn)與設(shè)置在所述第一參考圖像的左下角處的第一參考頂點(diǎn)之間的距離。
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