[發明專利]顯影處理裝置、顯影處理方法以及存儲介質

在審

• 申請號: 201811181921.7
• 申請日: 2018-10-11
• 公開（公告）號: CN109656108A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 下青木剛;橋本祐作;稻葉翔吾
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/67;H01L21/027;B05B13/04;B05D1/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種顯影處理裝置、顯影處理方法以及存儲介質。顯影處理裝置具備：旋轉保持部，其保持晶圓并且使該晶圓旋轉；顯影液供給部，其具有噴嘴，所述噴嘴包括與晶圓的表面相向的液體接觸面和在該液體接觸面開口的噴出口；以及控制器，其中，控制器執行如下的控制：在晶圓旋轉時，使噴出口噴出顯影液，并且一邊使液體接觸面與表面的顯影液接觸一邊使噴嘴從晶圓的外周側向旋轉中心側移動的控制；在執行該控制后，一邊使液體接觸面與表面的顯影液接觸一邊使噴嘴從晶圓的旋轉中心側向外周側移動的控制；以及在執行該控制期間，使晶圓的轉速與液體接觸面的中心向外周靠近相應地逐漸下降的控制。

技術領域

本公開涉及一種顯影處理裝置、顯影處理方法以及存儲介質。

背景技術

在專利文獻1中公開了一種顯影方法，其包括以下工序：使用包括與基板的表面相向的接觸部的顯影液噴嘴在基板的表面的一部分形成液積存部；以及一邊在接觸部與液積存部接觸的狀態下向液積存部供給顯影液，一邊使顯影液噴嘴從旋轉的基板的中央部和周緣部的一側向另一側移動。

專利文獻1：日本特開2016-58712號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開的目的在于提供一種在抑制顯影處理的進展程度根據基板上的位置而產生偏差方面有效的顯影處理裝置和顯影處理方法。

用于解決問題的方案

本公開的一個側面所涉及的顯影處理裝置具備：旋轉保持部，其保持基板并且使所述基板旋轉；第一供給部，其具有噴嘴，所述噴嘴包括與被旋轉保持部保持的基板的表面相向的液體接觸面和在液體接觸面開口的噴出口；以及控制部，其中，控制部構成為執行掃入控制、在執行掃入控制后執行掃出控制以及在執行掃出控制期間執行減速控制，在掃入控制中，控制部控制第一供給部，以使在旋轉保持部使基板旋轉時，從噴出口噴出顯影液，并且一邊使液體接觸面與基板的表面的顯影液接觸一邊使噴嘴從基板的外周側向旋轉中心側移動，在掃出控制中，控制部控制第一供給部，以使在旋轉保持部使基板旋轉時，從噴出口噴出顯影液，并且一邊使液體接觸面與基板的表面的顯影液接觸一邊使噴嘴從基板的旋轉中心側向外周側移動，在減速控制中，控制部控制旋轉保持部，以使基板的轉速與液體接觸面的中心向基板的外周靠近相應地逐漸下降。

根據該顯影處理裝置，通過執行掃入控制和掃出控制，來向基板的表面進行兩次顯影液的涂布。通過第一次涂布，顯影液相對于基板的表面的接觸角下降，因此在第二次涂布中能順暢地涂抹顯影液。

在第一次涂布中，噴嘴從基板的外周側向旋轉中心側移動，因此先從基板的外周側涂布顯影液。另一方面，在第二次涂布中，噴嘴從基板的旋轉中心側向外周側移動，因此先從基板的旋轉中心側涂布顯影液。因此，通過第一次涂布和第二次涂布的組合，不易產生由于顯影液的涂布定時的不同引起的顯影處理的進展度(進展的程度)的差異。并且，在第二次涂布中，噴嘴從基板的旋轉中心側向外周側移動，由此一邊將舊的顯影液向外側推出一邊涂抹新的顯影液。

在執行掃出控制期間，執行使基板的轉速與液體接觸面的中心向基板的外周靠近相應地逐漸下降的減速控制。通過使轉速下降，來防止顯影液的過度甩動，從而在基板的表面形成適當的液膜。并且，由于使基板的轉速逐漸下降，因此能夠抑制由于急減速引起的回流(擴散到外周側的顯影液向旋轉中心側返回的現象)，從而能夠更順暢地涂抹顯影液。

通過以上過程，能夠形成均勻性高的顯影液的液膜。因而，該顯影處理裝置在抑制顯影處理的進展程度根據基板上的位置而產生偏差方面是有效的。

也可以是，在減速控制中，控制部控制旋轉保持部，以使基板的旋轉的減速度與液體接觸面的中心向基板的外周靠近相應地逐漸下降。在該情況下，能夠恰當地調節作用于從噴嘴噴出的處理液的離心力，從而更順暢地涂抹處理液。