[發(fā)明專利]顯影處理裝置、顯影處理方法以及存儲介質(zhì)

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• 申請日: 2018-10-11
• 公開（公告）號: CN109656108A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 下青木剛;橋本祐作;稻葉翔吾
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/67;H01L21/027;B05B13/04;B05D1/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種顯影處理裝置，具備：

旋轉(zhuǎn)保持部，其保持基板并且使所述基板旋轉(zhuǎn)；

第一供給部，其具有噴嘴，所述噴嘴包括與被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的所述基板的表面相向的液體接觸面和在所述液體接觸面開口的噴出口；以及

控制部，

其中，所述控制部構(gòu)成為執(zhí)行掃入控制、在執(zhí)行所述掃入控制后執(zhí)行掃出控制以及在執(zhí)行所述掃出控制期間執(zhí)行減速控制，

在掃入控制中，所述控制部控制所述第一供給部，以使在所述旋轉(zhuǎn)保持部使所述基板旋轉(zhuǎn)時，從所述噴出口噴出顯影液，并且一邊使所述液體接觸面與所述基板的表面的所述顯影液接觸一邊使所述噴嘴從所述基板的外周側(cè)向旋轉(zhuǎn)中心側(cè)移動，

在掃出控制中，所述控制部控制所述第一供給部，以使在所述旋轉(zhuǎn)保持部使所述基板旋轉(zhuǎn)時，從所述噴出口噴出所述顯影液，并且一邊使所述液體接觸面與所述基板的表面的所述顯影液接觸一邊使所述噴嘴從所述基板的旋轉(zhuǎn)中心側(cè)向外周側(cè)移動，

在減速控制中，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部，以使所述基板的轉(zhuǎn)速與所述液體接觸面的中心向所述基板的外周靠近相應(yīng)地逐漸下降。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述減速控制中，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部，以使所述基板的旋轉(zhuǎn)的減速度與所述液體接觸面的中心向所述基板的外周靠近相應(yīng)地逐漸下降。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述減速控制中，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部，以使所述液體接觸面內(nèi)的某一點(diǎn)相對于所述基板的表面以固定的速度移動。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項(xiàng)所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述掃出控制中，控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部，以使從所述掃入控制的結(jié)束時起直至所述減速控制開始時為止的期間中的所述基板的轉(zhuǎn)速的變化相比于所述減速控制中的所述基板的轉(zhuǎn)速的變化量減小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任一項(xiàng)所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述減速控制中，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部，以使所述基板的轉(zhuǎn)速的減速所持續(xù)的時間比所述掃入控制的執(zhí)行時間長。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中的任一項(xiàng)所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述掃出控制中，所述控制部控制所述第一供給部，以使在所述液體接觸面的中心從所述基板的旋轉(zhuǎn)中心離開而去向外周側(cè)的中途開始從所述噴出口噴出所述顯影液。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯影處理裝置，其特征在于，

在所述掃入控制中，所述控制部控制所述第一供給部，以使在所述液體接觸面的中心到達(dá)所述基板的旋轉(zhuǎn)中心之前停止從所述噴出口噴出所述顯影液。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中的任一項(xiàng)所述的顯影處理裝置，其特征在于，

所述顯影處理裝置還具備第二供給部，所述第二供給部向被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的所述基板的表面供給與所述顯影液不同的預(yù)濕液，

所述控制部構(gòu)成為在執(zhí)行所述掃入控制前還執(zhí)行預(yù)濕控制，在所述預(yù)濕控制中，所述控制部控制所述第二供給部，以使在所述旋轉(zhuǎn)保持部使所述基板旋轉(zhuǎn)時，向所述基板的表面供給預(yù)濕液。

9.一種顯影處理方法，包括以下步驟：

保持基板并使所述基板旋轉(zhuǎn)；

從包括液體接觸面和在所述液體接觸面開口的噴出口的噴嘴的噴出口噴出顯影液，并且一邊使所述液體接觸面與旋轉(zhuǎn)的基板的表面的所述顯影液接觸一邊使所述噴嘴從所述基板的外周側(cè)向旋轉(zhuǎn)中心側(cè)移動；

在使所述噴嘴從所述基板的外周側(cè)移動到旋轉(zhuǎn)中心側(cè)之后，從所述噴出口噴出所述顯影液，并且一邊使所述液體接觸面與旋轉(zhuǎn)的基板的表面的顯影液接觸一邊使所述噴嘴從所述基板的旋轉(zhuǎn)中心側(cè)向外周側(cè)移動；

在所述噴嘴一邊從所述噴出口噴出所述顯影液一邊從所述基板的旋轉(zhuǎn)中心側(cè)向外周側(cè)移動時，使所述基板的轉(zhuǎn)速與所述液體接觸面的中心向所述基板的外周靠近相應(yīng)地下降。

10.一種存儲介質(zhì)，可由計(jì)算機(jī)讀取，并且存儲有用于使裝置執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯影處理方法的程序。