[發明專利]核殼結構納米晶的制備方法

在審

• 申請號: 201811173681.6
• 申請日: 2018-10-09
• 公開（公告）號: CN111019658A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 程陸玲;楊一行
• 申請（專利權）人: TCL集團股份有限公司
• 主分類號: C09K11/88
• 分類號: C09K11/88;C09K11/02;B82Y20/00;B82Y40/00
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 黃志云

1.一種核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供量子點核，將所述量子點核分散在含有有機胺的溶液中進行加熱處理；

在所述量子點核表面進行N次殼層生長，制備N層殼層，得到核殼結構納米晶，用于所述殼生長的殼源包括殼源陽離子前驅體和殼源陰離子前驅體，所述殼源陽離子前驅體為金屬有機羧酸鹽；在不同次序的M次相鄰殼層生長步驟之間，向已形成前一殼層的殼層生長反應體系中加入有機胺進行混合和加熱后，再進行后一殼層的生長；其中，N為大于等于2的正整數；M為正整數，且M的取值滿足：N/3≤M≤N-1；

將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸的溶液中進行加熱處理。

2.如權利要求1所述的核殼結構納米晶的制備方法，將所述量子點核分散在含有有機胺的溶液中進行加熱處理的步驟中，按照所述量子點核與所述有機胺試劑的質量摩爾比為10mg:(3～10mmol)，將所述量子點核分散在含有有機胺的溶液中。

3.如權利要求2所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述量子點核分散在含有有機胺的溶液中進行加熱處理的步驟中，所述修飾處理的條件為：將所述量子點核分散在含有有機胺的溶液中，在溫度為80-150℃的條件下加熱20-60min。

4.如權利要求1所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸的溶液中進行加熱處理的步驟中，按照所述有機酸與所述量子點核的摩爾質量比為(5～10mmol):10mg，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸的溶液中。

5.如權利要求4所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸的溶液中進行加熱處理的步驟中，，所述修飾處理的條件為：將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸的溶液中，在溫度為240-320℃的條件下加熱30-90min。

6.如權利要求1所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸和有機膦的溶液中進行加熱處理。

7.如權利要求6所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸和有機膦的溶液中進行加熱處理的步驟中，按照所述有機酸與所述量子點核的摩爾質量比為(5～10mmol):10mg，所述有機膦與所述量子點核的摩爾質量比為(2～5mmol):10mg，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸和有機膦的溶液中。

8.如權利要求7所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸和有機膦的溶液中進行加熱處理的步驟中，所述修飾處理的條件為：將所述核殼結構納米晶分散在含有有機酸和有機膦的溶液中，在溫度為100-320℃的條件下加熱10-60min。

9.如權利要求1-8任一項所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，所述有機酸選自含有末端羧基的直鏈羧酸。

10.如權利要求1-8任一項所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，M＝N-1。

11.如權利要求1所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，在所述的不同次序的M次相鄰殼層生長步驟之間，包括在不同次序的L次的相鄰殼層生長步驟之間，向已形成前一殼層的殼層生長反應體系中加入有機胺和有機膦進行混合和加熱后，再進行后一殼層的生長，其中，L為正整數，且L≤M。

12.如權利要求11所述的核殼結構納米晶的制備方法，其特征在于，L＝M＝N-1。