[發(fā)明專利]一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811173112.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109182974A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁繼然;楊治彬;趙一瑞;郭津榜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/18 | 分類號(hào): | C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 琪琛 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 快速熱退火 薄膜 制備氧化釩薄膜 氧化釩薄膜 制備 快速退火爐 熱處理 測(cè)試系統(tǒng) 沉積金屬 磁控濺射 工藝條件 探針電阻 退火參數(shù) 制備過(guò)程 制備周期 釩金屬 濺射 摻雜 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法,采用磁控濺射的方法沉積金屬釩薄膜,然后在快速退火爐中分兩步進(jìn)行熱處理,在整個(gè)制備過(guò)程中沒(méi)有其他物質(zhì)的摻雜,僅改變退火參數(shù),然后通過(guò)四探針電阻測(cè)試系統(tǒng)對(duì)制備的薄膜進(jìn)行表征。通過(guò)先濺射釩金屬薄膜,再二步快速熱退火的方法制備的氧化釩薄膜,能在降低氧化釩薄膜相變溫度的同時(shí)提高相變幅度,并且工藝條件簡(jiǎn)單,所需要的制備周期較短,很易于控制。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法。
背景技術(shù)
窗作為建筑物外面重要的組成和美化部分,同時(shí)還是建筑物與外界熱量交換的重要通道,當(dāng)前,我國(guó)能耗嚴(yán)重,建筑能耗占總能耗的30%,而僅門窗的能耗就占建筑總能耗的40%。可見(jiàn),如果要降低建筑能耗,就必須先降低窗戶的能耗,并且隨著能源危機(jī)、污染、全球變暖等問(wèn)題的日益嚴(yán)峻,智能窗的研究迅速成為熱點(diǎn)。它能根據(jù)室內(nèi)的溫度自動(dòng)調(diào)節(jié)對(duì)太陽(yáng)光的透過(guò)率,當(dāng)室內(nèi)溫度低時(shí),讓紅外光透過(guò)玻璃進(jìn)入室內(nèi),提高室內(nèi)的溫度;當(dāng)室內(nèi)溫度高時(shí),自動(dòng)降低紅外光的透過(guò)率,使室內(nèi)溫度降低,如此,實(shí)現(xiàn)對(duì)室內(nèi)溫度的自動(dòng)化控制。二氧化釩(VO2)是一種高性能的智能材料,在68℃附近會(huì)發(fā)生金屬相到半導(dǎo)體相的可逆轉(zhuǎn)變,晶體結(jié)構(gòu)由低溫下的單斜相轉(zhuǎn)變到高溫下的四方金紅石相,同時(shí)伴隨著電學(xué)、磁學(xué)以及光學(xué)性質(zhì)的劇烈變化,特別是在近紅外波段,太陽(yáng)光的透射率有很大的變化,并且VO2的相變溫度相比于室溫不是很高,因此,VO2是制造智能窗的理想材料,在此領(lǐng)域中有很大的應(yīng)用前景。
但是,智能窗在人們的生活中應(yīng)用時(shí),其工作溫度要低于68℃,這就需要降低氧化釩薄膜的相變溫度,同時(shí),為了使氧化釩薄膜對(duì)太陽(yáng)光有調(diào)制能力,薄膜中也必須有單斜結(jié)構(gòu)的VO2,即相變幅度盡可能高。目前,許多國(guó)內(nèi)外學(xué)者做了關(guān)于降低氧化釩薄膜相變溫度的研究,大多是通過(guò)摻雜調(diào)控氧化釩薄膜的相變溫度,比如鎢摻雜氧化釩薄膜可以有效地降低VO2的相變溫度,此外,還可以摻雜Mo,Cr,Fe,Ni等元素。雖然摻雜可有效降低氧化釩薄膜的相變溫度,但是過(guò)程不易控制,很難控制摻雜數(shù)量。通過(guò)傳統(tǒng)的快速熱退火的方法也能降低相變溫度,但是制備的氧化釩薄膜相變幅度不高。用二步快速熱退火的方法在提高氧化釩薄膜相變幅度的同時(shí)降低相變溫度,這種方法目前鮮有人報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法,解決現(xiàn)有技術(shù)中傳統(tǒng)的退火方法制備的氧化釩薄膜相變幅度不高的問(wèn)題。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法,包括以下步驟:
(1)藍(lán)寶石基底的清洗:
首先將藍(lán)寶石放在丙酮溶液中超聲清洗,然后取出再放入無(wú)水乙醇中超聲清洗,然后用去離子水洗凈,以去除藍(lán)寶石表面的各種雜質(zhì),最后,將洗干凈的藍(lán)寶石基底放在無(wú)水乙醇中備用;
(2)金屬釩薄膜的沉積:
將(1)中洗干凈的藍(lán)寶石烘干,放入DPS-Ⅲ型超高真空直流對(duì)靶磁控濺射設(shè)備的真空室,首先進(jìn)行預(yù)濺射,然后進(jìn)行濺射,在藍(lán)寶石基底表面沉積釩金屬薄膜;將沉積好的金屬釩薄膜放在樣品盒中備用;
(3)氧化釩薄膜的制備
將(2)中沉積好的金屬釩薄膜放在快速退火爐中進(jìn)行快速熱處理以形成氧化釩;在退火時(shí),使用二步快速熱退火的方法,先經(jīng)過(guò)7.5s升溫至375℃保持65s,然后經(jīng)過(guò)1.5s升溫至450℃,保持130-170s;所有樣品的降溫時(shí)間大致相同,均為100-200s。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





