[發(fā)明專(zhuān)利]一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811173112.1
• 申請(qǐng)日: 2018-10-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109182974A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁繼然;楊治彬;趙一瑞;郭津榜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/18
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專(zhuān)利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 琪琛

1.一種通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)藍(lán)寶石基底的清洗：

首先將藍(lán)寶石放在丙酮溶液中超聲清洗，然后取出再放入無(wú)水乙醇中超聲清洗，然后用去離子水洗凈，以去除藍(lán)寶石表面的各種雜質(zhì)，最后，將洗干凈的藍(lán)寶石基底放在無(wú)水乙醇中備用；

(2)金屬釩薄膜的沉積：

將(1)中洗干凈的藍(lán)寶石烘干，放入DPS-Ⅲ型超高真空直流對(duì)靶磁控濺射設(shè)備的真空室，首先進(jìn)行預(yù)濺射，然后進(jìn)行濺射，在藍(lán)寶石基底表面沉積釩金屬薄膜；將沉積好的金屬釩薄膜放在樣品盒中備用；

(3)氧化釩薄膜的制備

將(2)中沉積好的金屬釩薄膜放在快速退火爐中進(jìn)行快速熱處理以形成氧化釩；在退火時(shí)，使用二步快速熱退火的方法，先經(jīng)過(guò)7.5s升溫至375℃保持65s，然后經(jīng)過(guò)1.5s升溫至450℃，保持130-170s；所有樣品的降溫時(shí)間均為100-200s。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法，其特征在于，所述步驟(2)濺射條件為：工作氣體是純度約99.99％的氬氣，靶材是純度為99.99％的釩靶，首先將真空室抽至本底真空8×10^-4Pa，基底溫度為室溫，氬氣流量為48sccm，濺射時(shí)的工作氣壓為2Pa，設(shè)置濺射功率60W，預(yù)濺射時(shí)間15min，所有樣品的濺射時(shí)間都是16min，在藍(lán)寶石基底表面沉積厚度大約為80nm的釩金屬薄膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述通過(guò)二步快速熱退火制備氧化釩薄膜的方法，其特征在于，所述步驟(3)熱處理時(shí)的工作氣體是高純氧，熱處理的時(shí)間可分為三段：升溫時(shí)間、保持時(shí)間和降溫時(shí)間，其中，升溫時(shí)間和保持時(shí)間的氧氣流量固定為7slpm，降溫時(shí)間的氧氣流量為1slpm，升溫速率固定為50℃/s。