[發明專利]偏光度的測量方法

有效

• 申請號: 201811165732.0
• 申請日: 2018-10-08
• 公開（公告）號: CN109282969B
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 陳俊吉
• 申請（專利權）人: 惠州市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種偏光度的測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供一參考偏振片的反射率及一參考基板的反射率；

一各向線偏振光入射至一偏振片與一基板組合形成的一模組，測量所述模組的反射率，將所述模組的反射率的最大值作為所述模組的平行反射率，將所述模組的反射率的最小值作為所述模組的正交反射率；

根據所述參考偏振片的反射率、所述參考基板的反射率、所述模組的平行反射率及所述模組的正交反射率計算所述偏振片的偏光度；其中，根據公式(1)、公式(2)及公式(3)求得所述偏振片的偏光度：

R_//＝R_POL+T_//*R_G (1)

R_⊥＝R_POL+T_⊥*R_G (2)

其中，R_POL為所述參考偏振片的反射率，R_G為所述參考基板的反射率，T_//為所述偏振片的平行透光率，T_⊥為所述偏振片的正交透光率，R_//為所述模組的平行反射率，R_⊥為所述模組的正交反射率，P為所述偏振片的偏光度。

2.根據權利要求1所述的偏光度的測量方法，其特征在于，定義一標準白參考板對一光源入射光的反射率為100％，測量所述光源入射至所述標準白參考板后形成的反射光的亮度，所述光源入射在所述參考偏振片后形成的反射光的亮度與所述標準白參考板的反射光的亮度對比，得到所述參考偏振片的反射率，所述光源入射在所述參考基板后形成的反射光的亮度與所述標準白參考板的反射光的亮度對比，得到所述參考基板的反射率。

3.根據權利要求1所述的偏光度的測量方法，其特征在于，將所述各向線偏振光入射在一標準白參考板后形成的反射光的亮度作為100％反射率，所述各向線偏振光入射在所述模組后形成的反射光的亮度與所述標準白參考板的反射光的亮度對比，得到所述模組的反射率。

4.根據權利要求2或3所述的偏光度的測量方法，其特征在于，通過一感光器測量所述參考偏振片、所述參考基板及所述模組的反射光的亮度。

5.根據權利要求1所述的偏光度的測量方法，其特征在于，一光源經一可旋轉的理想偏振片產生所述各向線偏振光。

6.根據權利要求1所述的偏光度的測量方法，其特征在于，所述各向線偏振光從所述模組具有所述偏振片的一側入射。

7.根據權利要求1所述的偏光度的測量方法，其特征在于，所述基板為薄膜晶體管基板或者彩色濾膜基板。