[發明專利]一種圖形密度的分析方法

有效

• 申請號: 201811154697.2
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN109359363B
• 公開（公告）日: 2023-07-18
• 發明（設計）人: 程瑋;朱忠華;魏芳
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G06F119/18
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐偉

1.一種圖形密度的分析方法，用以分析版圖的局部圖形密度，包括：

獲取位于所述版圖中待分析版圖區域上每一個版圖圖形的圖形屬性；

對每一個版圖圖形，基于對應的圖形屬性設定該版圖圖形的相關窗口；

計算每一個相關窗口的圖形密度；以及

選取相關窗口的圖形密度中的最大值為所述版圖的最大局部圖形密度，選取相關窗口的圖形密度中的最小值為所述版圖的最小局部圖形密度；

其中，設定所述相關窗口進一步包括，對每一個版圖圖形，基于對應的圖形屬性設定該版圖圖形的第一相關窗口和第二相關窗口，每一個版圖圖形位于對應的第一相關窗口的內部，每一個版圖圖形與對應的第二相關窗口鄰接且位于該第二相關窗口的外部；

所述獲取每一個版圖圖形的圖形屬性進一步包括：獲取該版圖圖形的最小外接矩形的頂點坐標；以及

設定相關窗口進一步包括：針對最小外接矩形的每個頂點為原點的坐標系，在該版圖圖形所在的象限內設定以該原點為頂點的第一相關窗口，在至少一個其余象限內設定以該原點為頂點的第二相關窗口。

2.如權利要求1所述的分析方法，其特征在于：

選取最大局部圖形密度進一步包括在每一個第一相關窗口的圖形密度中選取最大值為所述最大局部圖形密度；以及

選取最小局部圖形密度進一步包括在每一個第二相關窗口的圖形密度中選取最小值為所述最小局部圖形密度。

3.如權利要求2所述的分析方法，其特征在于，所述第一相關窗口和所述第二相關窗口為矩形。

4.如權利要求3所述的分析方法，其特征在于，所述最小外接矩形的頂點坐標為A(Xl，Yd)、B(Xl，Yu)、C(Xr，Yu)和D(Xr，Yd)；其中

Xl、Xr為該版圖圖形在所述待分析版圖區域X方向上的兩側端點坐標，Yd、Yu為該版圖圖形在所述待分析版圖區域Y方向上的兩側端點坐標。

5.如權利要求1所述的分析方法，其特征在于，所述分析方法還包括：

將每一個相關窗口的圖形密度與預設最高規格作比較，以標記圖形密度超出所述預設最高規格的相關窗口；和/或

將每一個相關窗口的圖形密度與預設最低規格作比較，以標記圖形密度低于所述預設最低規格的相關窗口。

6.如權利要求1所述的分析方法，其特征在于，所述相關窗口為W1*W1的矩形；以及

在獲取所述圖形屬性的步驟前，所述方法還包括：

對所述版圖進行初步篩選，以獲取所述待分析版圖區域，所述待分析版圖區域為W2*W2的矩形，其中，W2大于W1。

7.如權利要求6所述的分析方法，其特征在于，所述初步篩選的步驟進一步包括：設定W2*W2的檢查窗口；

以S＝1/2*W2的步長沿所述版圖的X、Y方向移動所述檢查窗口以遍歷所述版圖，并計算每一次步進的檢查窗口的圖形密度；

將所述每一次步進的檢查窗口的圖形密度與預設的篩選規格作比較，選出圖形密度超出預設的篩選規格的檢查窗口內的版圖區域為所述待分析版圖區域。

8.如權利要求1-7中任一項所述的分析方法，其特征在于，所述圖形密度為相應窗口內具有版圖圖形的面積占相應窗口面積的比例。