[發明專利]一種掩膜版的量測補值方法、掩膜版及掩膜版的制備方法

在審

• 申請號: 201811154512.8
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN109212897A
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 張海杰;楊祖有
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種掩膜版的量測補值方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜版，所述掩膜版包括顯示區以及預留區，所述預留區設置有長度尺，所述掩膜版的顯示區上設置有多個第一圖形，根據預設距離值確定所述掩膜版上所述多個第一圖形的位置；

對所述多個第一圖形進行圖案化處理，在玻璃基板上得到與所述多個第一圖形對應的多個第二圖形，并獲取所述多個第二圖形中相鄰第二圖形間的實際距離值；

根據所述預設距離值與所述第二圖形間的實際距離值得到補償值；

根據所述補償值對所述第二圖形進行補值處理。

2.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述長度尺用于確定所述多個第一圖形位置以及測量所述相鄰第二圖形間的實際距離值。

3.如權利要求2所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述根據預設距離值確定所述掩膜版上的多個第一圖形的位置，包括：

根據所述長度尺的刻度線與所述預設距離值確定所述掩膜版上所述多個第一圖形中相鄰第一圖形間的距離值為預設距離值。

4.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述對所述多個第一圖形進行圖案化處理，在玻璃基板上得到與所述多個第一圖形對應的多個第二圖形，并獲取所述多個第二圖形中相鄰第二圖形間的實際距離值包括：

對所述多個第一圖形進行圖案化處理，使得所述玻璃基板上的所述多個第二圖形在水平方向上的長度減小或增大，以得到與所述多個第一圖形對應的多個第二圖形；

根據所述長度尺的刻度線確定所述多個第二圖形中相鄰第二圖形間的實際距離值。

5.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述根據所述預設距離值與所述實際距離值得到補償值，包括：

根據所述預設距離值與所述實際距離值的差值，得到所述補償值。

6.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述預設距離值為所述多個第一圖形中相鄰第一圖形末端間的距離，和/或所述多個第一圖形中相鄰第一圖形首端間的距離。

7.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述實際距離值為所述多個第二圖形中相鄰第二圖形末端間的距離，和/或所述多個第二圖形中相鄰第二圖形首端間的距離。

8.如權利要求1所述的掩膜版的量測補值方法，其特征在于，所述對所述多個第一圖形進行圖案化處理，包括：

對所述多個第一圖形進行曝光和/或蝕刻。

9.一種掩膜版，其特征在于，包括：顯示區以及預留區，所述顯示區上設置有多個第一圖形，在所述預留區上設置有長度尺，所述長度尺為如權利要求1-8任一項所述的長度尺。

10.一種掩膜版的制備方法，其特征在于，包括：

將所述掩膜版劃分為顯示區以及預留區；其中，

所述顯示區上設置有多個第一圖形，所述預留區上設置有長度尺，所述長度尺為如權利要求1-8任一項所述的長度尺。