[發(fā)明專利]工件表面損傷修復(fù)方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811152167.4 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN108911532B | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金會良;李亞國;許喬;劉志超;袁志剛;歐陽升;王度;耿鋒;張清華;王健 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號: | C03C23/00 | 分類號: | C03C23/00 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吳開磊 |
| 地址: | 610000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工件 表面 損傷 修復(fù) 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種工件表面損傷修復(fù)方法,其特征在于,所述方法包括:
將激光聚焦到待修復(fù)工件表面;
將聚焦激光的光斑在所述待修復(fù)工件表面移動以掃描整個所述待修復(fù)工件表面,以使激光能量作用于所述待修復(fù)工件表面使所述待修復(fù)工件表面產(chǎn)生熱效應(yīng),以熔合所述待修復(fù)工件表面的微裂紋損傷層,生成微裂紋熔合層;
向所述待修復(fù)工件表面輸出等離子體射流;
檢測預(yù)設(shè)時間內(nèi),所述等離子體射流靜止作用于所述待修復(fù)工件表面形成的蝕點深度及蝕點面積;
檢測所述微裂紋熔合層的面積及深度;
根據(jù)所述蝕點深度、蝕點面積、所述微裂紋熔合層的面積及深度,得到所述等離子體射流的運動函數(shù);
控制所述等離子體射流在所述待修復(fù)工件表面運動,以去除 所述微裂紋熔合層。
2.如權(quán)利要求1所述的工件表面損傷修復(fù)方法,其特征在于,控制所述等離子體射流在所述待修復(fù)工件表面運動,包括:
根據(jù)所述運動函數(shù),控制所述等離子體射流在所述待修復(fù)工件表面運動。
3.一種工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
夾持部件,用于固定待修復(fù)工件;
聚焦器,用于將激光聚焦到待修復(fù)工件表面;
掃描振鏡,用于將聚焦激光的光斑在所述待修復(fù)工件表面移動以掃描整個所述待修復(fù)工件表面,以使激光能量作用于所述待修復(fù)工件表面使所述待修復(fù)工件表面產(chǎn)生熱效應(yīng),以熔合所述待修復(fù)工件表面的微裂紋損傷層,生成微裂紋熔合層;
等離子體發(fā)生器,用于產(chǎn)生等離子體射流,并向所述待修復(fù)工件表面輸出所述等離子體射流;
檢測器,用于獲取預(yù)設(shè)時間內(nèi),所述等離子體射流靜止作用于所述待修復(fù)工件表面形成的蝕點深度及蝕點面積;
所述檢測器還用于檢測所述微裂紋熔合層的面積及深度;
計算機,用于根據(jù)所述蝕點深度、蝕點面積、所述微裂紋熔合層的面積及深度,得到所述等離子體射流的運動函數(shù);
傳動部件,用于控制所述夾持部件帶動所述待修復(fù)工件表面相對于所述等離子體射流運動,以去除所述微裂紋熔合層。
4.如權(quán)利要求3所述的工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,所述計算機還用于根據(jù)所述運動函數(shù)控制所述傳動部件,以使所述傳動部件控制所述夾持部件帶動所述待修復(fù)工件表面相對于所述等離子體射流運動,以去除所述微裂紋熔合層。
5.如權(quán)利要求4所述的工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,所述掃描振鏡的掃描速率范圍為2~8m/s。
6.如權(quán)利要求5所述的工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,所述激光能量的能量范圍為800~2000W。
7.如權(quán)利要求6所述的工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,當所述激光能量作用于所述待修復(fù)工件表面時,所述待修復(fù)工件表面對所述激光能量的吸收深度范圍為8~12μm。
8.如權(quán)利要求7所述的工件表面損傷修復(fù)系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體射流對所述微裂紋熔合層的去除速率范圍為5~30mm3/min,去除深度范圍為1~1000μm。
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