[發明專利]陣列基板和柔性顯示裝置有效
| 申請號: | 201811151426.1 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN109449163B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發明(設計)人: | 金世遇 | 申請(專利權)人: | 廣州國顯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 胡艾青;劉芳 |
| 地址: | 511300 廣東省廣州市增城區永*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 柔性 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括顯示區和非顯示區;
所述顯示區包括柵極、源漏極以及位于所述柵極與所述源漏極之間的金屬層下絕緣層,所述源漏極包括源極與漏極;
所述非顯示區包括層疊設置的平坦化膜層和金屬膜層,所述平坦化膜層與所述金屬層下絕緣層的高度一致,所述源極或所述漏極與所述金屬膜層連接并且為一體結構;
所述平坦化膜層與所述金屬膜層之間設置嵌設的凹凸配合結構。
2.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述平坦化膜層中設置有凹槽部,所述金屬膜層上設置有凸起部,所述凸起部嵌設在所述凹槽部內。
3.根據權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬膜層和設置于其上的所述凸起部為一體結構,且材料相同。
4.根據權利要求1或2任一所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬膜層中設置有凹槽部,所述平坦化膜層上設置有凸起部,其中凸起部嵌設在凹槽部內。
5.根據權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述平坦化膜層和設置于其上的凸起部為一體結構,且材料相同。
6.根據權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述凸起部分布于以下至少一個區域中:
所述非顯示區靠近所述顯示區的第一邊緣區域;
所述非顯示區遠離所述顯示區的第二邊緣區域;
所述非顯示區用于彎折變形的中心彎折區域。
7.根據權利要求6所述的陣列基板,其特征在于,分布在所述中心彎折區域中的所述凸起部為條狀凸起部,且所述條狀凸起部的延伸方向,與所述中心彎折區域中預設折彎線的延伸方向一致。
8.根據權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬膜層包括:第一金屬走線層和第二金屬走線層;所述平坦化膜層包括:第一平坦化層、第二平坦化層和第三平坦化層;
所述第一平坦化層、所述第一金屬走線層、所述第二平坦化層、所述第二金屬走線層和所述第三平坦化層依次層疊設置;
所述凹槽部設置于所述第一平坦化層、所述第一金屬走線層、所述第二平坦化層、所述第二金屬走線層和所述第三平坦化層中的一個或多個層中;
所述凸起部設置于所述第一平坦化層、所述第一金屬走線層、所述第二平坦化層、所述第二金屬走線層和所述第三平坦化層中的一個或多個層中。
9.根據權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述凸起部在所述金屬膜層上的正投影呈圓形或多邊形。
10.一種柔性顯示裝置,其特征在于,包括:如權利要求1至9任一所述的陣列基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





