[發明專利]一種靶材的制作方法

有效

• 申請號: 201811146501.5
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN109023269B
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 陳欽忠;陳寶忠;林志河;蔡小勇;邱樹將
• 申請（專利權）人: 福建阿石創新材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 張海青

本發明公開一種靶材的制作方法。所述制作方法包括：采用電刷鍍方式在靶坯的接觸面制作第一膜層；采用電刷鍍方式在背板的接觸面制作第二膜層；所述第二膜層與所述第一膜層材質相同；用自來水將所述靶坯和所述背板沖凈、吹干；將所述靶坯和所述背板疊合固定在加熱平臺上；疊合時所述靶坯的接觸面的第一膜層與所述背板的接觸面的第二膜層接觸；打開所述加熱平臺，調節溫度范圍，所述溫度范圍為高于所述第一膜層和第二膜層的熔點，且小于所述靶坯和所述背板的熔點的溫度范圍；保溫保壓1小時后關閉所述加熱平臺；冷卻后，完成所述靶坯與所述背板的結合，完成靶材的制作。采用本發明靶材的制作方法，可以提高靶材的結合率，提高靶材的質量。

技術領域

本發明涉及靶材制作領域，特別是涉及一種靶材的制作方法。

背景技術

智能手機、平板電腦、汽車電子等終端消費領域對半導體需求的持續增長，將進一步提升半導體、平板顯示器等市場容量。尤其是平板顯示方面，中國已成為繼日本和韓國之后全球第三大平板顯示產業大國，而液晶顯示用濺射靶材尺寸普遍較大，將為濺射靶材生產廠商提供更加廣闊的發展空間。

濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜；由于高純度金屬強度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機臺內完成濺射過程，機臺內部為高電壓、高真空環境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。

隨著靶材尺寸的增大，對濺射靶材的焊接結合率、平整度等指標提出了更高的要求。目前靶材主要的焊接工藝為釬焊，即采用比靶坯熔點低的金屬材料作釬料，將釬料加熱到高于釬料熔點，低于靶坯、背板熔化溫度，利用液態釬料潤濕靶坯、背板，填充兩者之間的間隙并實現連接，但當前靶材上釬料基本上為銦、及銦錫類合金，極易氧化，平整度也比較難以保證，且在大氣環境下，焊合修平時容易混入氣體，這就容易造成粘結層存在孔隙，以至結合率達不到要求，造成靶材在磁控濺射中容易脫靶開裂等一系列問題。

發明內容

本發明的目的是提供一種靶材的制作方法，以提高靶材的結合率，提高靶材的質量。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

一種靶材的制作方法，所述制作方法包括：

采用電刷鍍方式在靶坯的接觸面制作第一膜層；

采用電刷鍍方式在背板的接觸面制作第二膜層；所述第二膜層與所述第一膜層材質相同；

用自來水將所述靶坯和所述背板沖凈、吹干；

將所述靶坯和所述背板疊合固定在加熱平臺上；疊合時所述靶坯的接觸面的第一膜層與所述背板的接觸面的第二膜層接觸；

打開所述加熱平臺，調節溫度范圍，所述溫度范圍為高于所述第一膜層和第二膜層的熔點，且小于所述靶坯和所述背板的熔點的溫度范圍；

保溫保壓1小時后關閉所述加熱平臺；

冷卻后，完成所述靶坯與所述背板的結合，完成靶材的制作。

可選的，所述采用電刷鍍方式在靶坯的接觸面制作第一膜層，具體包括：

將所述靶坯固定于鋁合金卡槽上，所述卡槽連接電源的負極，電鍍筆連接電源的正極；

打開所述電源，并調節所述電源的電壓在10V～20V之間；

將所述電鍍筆蘸取堿性銦溶液與靶坯接觸，并施加壓力均勻涂覆在所述靶坯的接觸面；

涂覆完成后，生成第一膜層；

關閉所述電源。