[發明專利]一種濺射靶材的清潔方法及裝置

有效

• 申請號: 201811145384.0
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN109295427B
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 劉偉;劉偉文;陳丹丹;林海華;彭紹文
• 申請（專利權）人: 廈門乾照光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;B08B7/00;B08B15/04;B24B1/00;B24B55/06;B24D18/00;B24D99/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 尹秀;王寶筠

1.一種濺射靶材的清潔方法，其特征在于，包括：

利用海綿砂塊的第一面對靶材的濺射面的第一區域進行第一次打磨，去除所述第一區域的氧化物；

對所述第一次打磨過程中產生的打磨雜質進行第一靜電吸附，去除所述第一次打磨過程中產生的打磨雜質；

利用所述海綿砂塊的第二面對所述靶材的濺射面進行第二次打磨，所述海綿砂塊第二面的粗糙度小于所述海綿砂塊第一面的粗糙度；

對所述第二次打磨過程中產生的打磨雜質進行第二靜電吸附，去除所述第二次打磨過程中產生的打磨雜質；

對所述靶材進行烘烤；

對所述靶材的濺射面進行等離子處理，對所述靶材的濺射面進行第三次打磨；

其中，所述海綿砂塊包括：

海綿層；

位于所述海綿層第一表面的粘合層；

位于所述粘合層背離所述海綿層一側的磨料層，所述磨料層包括多個磨料，相鄰磨料之間具有間隙，曝露所述粘合層部分表面；

位于相鄰所述磨料之間，覆蓋所述粘合層曝露表面的覆膠層；

位于所述磨料層背離所述海綿層一側的無機保護層；

位于所述無機保護層背離所述海綿層一側的有機保護層。

2.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，該方法在利用所述海綿砂塊的第二面對所述靶材的濺射面進行第二次打磨之后還包括：

對所述靶材的濺射面進行擦拭，確認所述靶材的濺射面是否存在滿足預設條件的劃痕；

如果所述靶材的濺射面存在滿足預設條件的劃痕，繼續利用所述海綿砂塊的第二面對所述靶材的濺射面進行第二次打磨；

如果所述靶材的濺射面不存在滿足預設條件的劃痕，對所述第二次打磨過程中產生的打磨雜質進行第二靜電吸附，去除所述第二次打磨過程中產生的打磨雜質。

3.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，所述海綿砂塊第一面具有多個凸起，所述海綿砂塊的第一面單位英寸內的凸起的數量的取值范圍為1500目-4000目。

4.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，所述海綿砂塊的制作方法包括：

提供海綿層；

在所述海綿層的第一表面形成粘合層，所述粘合層完全覆蓋所述海綿層的第一表面；

在所述粘合層背離所述海綿層一側的表面固定磨料，以形成磨料層，其中，相鄰磨料之間具有間隙，該間隙曝露所述粘合層部分表面；

在所述粘合層背離所述海綿層一側的間隙內形成覆膠層，所述覆膠層背離所述海綿層一側的表面低于所述磨料層背離所述海綿層一側的表面最高點；

在所述磨料層背離所述粘合層一側形成無機保護層，所述無機保護層完全覆蓋所述磨料層和所述覆膠層背離所述海綿層一側的裸露表面；

在所述無機保護層背離所述海綿層一側形成有機保護層。

5.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，所述第一靜電吸附的工作電壓大于所述第二靜電吸附的工作電壓，和/或，所述第一靜電吸附使用的過濾網的網孔大于所述第二靜電吸附使用的過濾網的網孔。

6.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，對所述靶材進行等離子處理包括：

將所述靶材放在真空腔室中，向所述真空腔室中通入預設氣體；

給所述真空腔室施加預設磁場和第一電場第一預設時間，所述預設磁場用于電離所述預設氣體，產生等離子，所述第一電場用于給所述等離子加速，控制所述等離子轟擊所述靶材的濺射面；

給所述真空腔室施加預設磁場和第二電場第二預設時間，所述預設磁場用于電離所述預設氣體，產生等離子，所述第二電場用于給所述等離子加速，控制所述等離子轟擊所述靶材的濺射面；

其中，所述第二電場的電場強度大于所述第一電場的電場強度。