[發明專利]光刻膠供給管路清洗系統及方法在審

申請號：	201811132367.3	申請日：	2018-09-27
公開（公告）號：	CN110947707A	公開（公告）日：	2020-04-03
發明（設計）人：	郭浩	申請（專利權）人：	長鑫存儲技術有限公司
主分類號：	B08B9/032	分類號：	B08B9/032
代理公司：	上海光華專利事務所(普通合伙) 31219	代理人：	余明偉
地址：	230601 安徽省合肥市***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	光刻供給管路清洗系統方法
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【說明書】：

本發明提供一種光刻膠供給管路清洗系統及方法，光刻膠供給管路清洗系統包括：清洗液瓶，用于盛放清洗液；清洗液瓶包括瓶體及瓶蓋，瓶蓋蓋在所述瓶體的瓶口上；光刻膠供給管路，一端經由瓶蓋插入至清洗液瓶內，另一端與噴嘴相連接；第一開關閥，位于光刻膠供給管路上；進液管路，一端與供液源相連接，另一端與光刻膠供給管路相連接，且連接于清洗液瓶與第一開關閥之間；第二開關閥，位于進液管路上；及排液管路，一端經由瓶蓋插入至清洗液瓶內。本發明通過兩步清洗就可以實現所有光刻膠供給管路的清洗，不需要頻繁更換清洗液瓶，也不會存在部分光刻膠供給管路無法清洗的問題。

技術領域

本發明屬于集成電路技術領域，特別是涉及一種光刻膠供給管路清洗系統及方法。

背景技術

在現有半導體的光刻工藝中，在安裝使用新的光刻膠之前，需要使用清洗液對光刻膠供給管路進行清洗。現有的光刻膠供給管路清洗系統一般如圖1及圖2所示；一種清洗方式為使用清洗液瓶10中清洗液對光刻膠供給管路11直接進行清洗，如圖1所示，該方式雖然可以對整個光刻膠供給管路11進行清洗，但需要多次手動更換清洗液瓶10以提供大量的清洗液進行清洗，操作復雜，增加人的勞動強度；另一種清洗方式為使用廠務中央供液系統經由進液管路13提供清洗液對光刻膠供給管路11進行清洗，如圖2所示，但該清洗方式無法對與所述進液管路13連接處至所述清洗液瓶10之間的所述光刻膠供給管路11進行清洗，在后續進行光刻膠噴涂時會產生顆粒缺陷(particle)。

發明內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種光刻膠供給管路清洗系統及方法，用于解決現有技術中對光刻膠供給管路進行清洗時存在的需要多次手動更換清洗液瓶，操作復雜，浪費人力的問題，以及無法對與進液管路連接處至清洗液瓶之間的光刻膠供給管路進行清洗，在后續光刻膠噴涂時容易產生顆粒缺陷的問題。

為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種光刻膠供給管路清洗系統，所述光刻膠供給管路清洗系統包括：

清洗液瓶，用于盛放清洗液；所述清洗液瓶包括瓶體及瓶蓋，所述瓶蓋蓋在所述瓶體的瓶口上；

光刻膠供給管路，一端經由所述瓶蓋插入至所述清洗液瓶內，另一端與噴嘴相連接；

第一開關閥，位于所述光刻膠供給管路上；

進液管路，一端與供液源相連接，另一端與所述光刻膠供給管路相連接，且連接于所述清洗液瓶與所述第一開關閥之間；

第二開關閥，位于所述進液管路上；及

排液管路，一端經由所述瓶蓋插入至所述清洗液瓶內。

作為本發明的一種優選方案，所述光刻膠供給管路清洗系統還包括：

第三開關閥，所述第三開關閥位于所述排液管路上；及

第一抽液泵，位于所述排液管路上。