[發(fā)明專(zhuān)利]一種逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811116502.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109175392A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 董偉;孟瑤;朱勝;王曉明;趙陽(yáng);許富民;白兆豐;王延洋;韓陽(yáng);李國(guó)斌;石晶;韓國(guó)峰;王思捷;常青;任志強(qiáng);滕濤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 大連理工大學(xué);中國(guó)人民解放軍陸軍裝甲兵學(xué)院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B22F9/10 | 分類(lèi)號(hào): | B22F9/10 |
| 代理公司: | 大連東方專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 21212 | 代理人: | 李馨 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 霧化 圓形凹槽 承接部 通氣孔 液滴 離心霧化法 轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu) 熔體 轉(zhuǎn)盤(pán) 導(dǎo)熱性 分體式轉(zhuǎn)盤(pán) 貫通設(shè)置 過(guò)盈配合 金屬液滴 外界連通 霧化制粉 圓盤(pán)結(jié)構(gòu) 主體結(jié)構(gòu) 圓心 平面的 潤(rùn)濕角 潤(rùn)濕性 上表面 上端面 下端面 縱截面 同軸 下端 支撐 鋪展 匹配 承接 | ||
1.一種逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
基體,所述基體由上部的承接部和下部的支撐部構(gòu)成的縱截面呈類(lèi)“T型”的主體結(jié)構(gòu),所述承接部上表面設(shè)有與其圓心同軸的具有一定半徑的圓形凹槽;其中,所述基體采用導(dǎo)熱性小于20W/m/k的材料制成;
霧化平面,為圓盤(pán)結(jié)構(gòu),所述圓盤(pán)與所述圓形凹槽相匹配且與所述圓形凹槽過(guò)盈配合,所述霧化平面采用與霧化熔體潤(rùn)濕角<90°的材料制成;
通氣孔,貫通設(shè)置在所述承接部及所述支撐部?jī)?nèi),所述通氣孔的上端面與所述霧化平面的下端面接觸,所述通氣孔的下端與外界連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述霧化平面的上端面凸出于所述承接部上端面,凸出范圍為0.1-0.5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述承接部的直徑范圍在10-100mm,所述圓形凹槽的直徑范圍在5-90mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)速為10000rpm-50000rpm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基體采用二氧化鋯陶瓷、二氧化硅玻璃或不銹鋼制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的逐液滴離心霧化法專(zhuān)用轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述通氣孔的上端面小于等于所述霧化平面的下端面。
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