[發明專利]一種連續鍍膜設備

在審

• 申請號: 201811114953.5
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN108950512A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 王晗權;王興杰;周年生;方輝鶴;張洪波
• 申請（專利權）人: 百琪達智能科技（寧波）股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35;H01F41/18
• 代理公司: 寧波浙成知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33268
• 代理人: 洪松

本發明公開了一種連續鍍膜設備，包括進料倉、過渡倉和至少一條鍍膜室，鍍膜室連接于進料倉和過渡倉之間，鍍膜室內設置靶材、濺射電源和傳送機構，進料倉內設置有第一基片架，過渡倉內設有第二基片架和翻轉機構，第一基片架和第二基片架分別用于放置釹鐵硼磁片，翻轉機構為三軸翻轉機械手，翻轉機構包括翻轉機械手X軸鏈、翻轉機械手Y軸鏈、翻轉機械手Z軸鏈、翻轉機械手運行軌道、旋轉臂、夾緊氣缸和翻轉驅動機構，旋轉臂設置于翻轉機械手Z軸鏈的輸出端，夾緊氣缸設置于旋轉臂上，翻轉機構用以將第一基片架上的釹鐵硼磁片翻轉至第二基片架上。本發明具有自動化程度高、釹鐵硼磁片不易氧化、工作效率高的特點。

技術領域

本發明涉及磁體制備技術領域，特別涉及一種連續鍍膜設備。

背景技術

釹鐵硼（Nd2Fe14B）永磁體具有高剩磁、高矯頑力和高磁能積，是現今所知的綜合性能最高的稀土永磁材料，促進了磁學器件的小型化、輕型化的發展，使得在風力發電、變頻壓縮機和新能源乘用車等高端熱門領域得到了廣泛的應用。

在現有技術中，為了獲得高性能的燒結釹鐵硼永磁體主要運用到重稀土等元素的添加，晶界擴散添加重稀土元素成為近年來研究的熱點，使用晶界擴散的方法，使重稀土元素擴散進入磁體晶界及主相晶粒邊緣區域，既能達到提高各向異性場的目的，又不明顯的降低剩磁和磁能積，同時成本微量增加。

磁控濺射便是晶界擴散添加稀土元素的方法中的一種，磁控濺射是通過磁控濺射設備濺射重稀土金屬在釹鐵硼磁體表面，但是現有的磁控濺射是將磁體平放在托盤上，使一面濺射鍍膜之后冷卻，再進行手工翻面，再對另一面進行濺射，這無疑增加了濺射的時間，降低了生產效率，而且手工翻面容易導致釹鐵硼磁體發生氧化，而影響釹鐵硼磁體的性能。

發明內容

針對現有技術的不足和缺陷，提供一種連續鍍膜設備，具有自動化程度高、釹鐵硼磁片不易氧化、工作效率高的特點。

為實現上述目的，本發明提供以下技術方案。

一種連續鍍膜設備，包括進料倉、過渡倉和至少一條鍍膜室，鍍膜室連接于進料倉和過渡倉之間，鍍膜室內設置靶材、濺射電源和傳送機構，濺射電源與所述靶材電連接，用以向所述靶材輸出濺射功率，進料倉內設置有第一基片架和進料機構，進料機構為三軸進料機械手，三軸進料機械手包括進料機械手X軸鏈、進料機械手Y軸鏈、進料機械手Z軸鏈、進料機械手運行軌道、真空吸盤、進料驅動機構，進料機械手X軸鏈、進料機械手Y軸鏈、進料機械手Z軸鏈分別設置于進料機械手運行軌道上，且通過進料驅動機構帶動進料機械手X軸鏈、進料機械手Y軸鏈、進料機械手Z軸鏈在進料機械手運行軌道上滑動，真空吸盤設置于進料機械手Z軸鏈的輸出端，真空吸盤連接有真空發生器, 真空吸盤用以將釹鐵硼磁片移送至第一基片架上,過渡倉內設有第二基片架和翻轉機構，第一基片架和第二基片架分別用于放置釹鐵硼磁片，翻轉機構為三軸翻轉機械手，翻轉機構包括翻轉機械手X軸鏈、翻轉機械手Y軸鏈、翻轉機械手Z軸鏈、翻轉機械手運行軌道、旋轉臂、夾緊氣缸和翻轉驅動機構，翻轉機械手X軸鏈、翻轉機械手Y軸鏈、翻轉機械手Z軸鏈均設置于翻轉機械手運行軌道上，且通過翻轉驅動機構帶動翻轉機械手X軸鏈、翻轉機械手Y軸鏈、翻轉機械手Z軸鏈在進翻轉械手運行軌道上滑動，旋轉臂設置于翻轉機械手Z軸鏈的輸出端，夾緊氣缸設置于旋轉臂上，翻轉機構用以將第一基片架上的釹鐵硼磁片翻轉至第二基片架上。

進一步的，傳送機構為伺服電機通過磁流體驅動的中間傳送輥。

進一步的，進料倉和過渡倉內分別設有與中間傳送輥對接的內傳送輥, 內傳送輥通過外部的同步帶機構或內部的鏈傳動實現。

進一步的，鍍膜室和進料倉之間設有進料室，鍍膜室和過渡倉之間設有出料室。

進一步的，進料室和進料倉之間以及出料室和過渡倉之間分別設有真空翻板閥門。

進一步的，進料倉、過渡倉和鍍膜室內均連接有真空發生器。