[發(fā)明專利]一種基板圖案陣列的完整性檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811114028.2 | 申請日: | 2018-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN109378277B | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉哲 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圖案 陣列 完整性 檢測 方法 | ||
1.一種基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,包括以下步驟:
灰度圖獲取步驟,用以獲取基板圖案陣列的灰度圖;
數(shù)值化處理步驟,用以對所述灰度圖進行數(shù)值化處理,得到灰度值信號;
傅里葉轉(zhuǎn)換步驟,用以將灰度值信號轉(zhuǎn)換為頻率域的信號的分布;
對比分析步驟,用以對頻率域的信號的分布進行分析,得到所述基板圖案陣列的完整性信息;
所述基板圖案陣列的完整性信息,包括圖案完整和一致,和/或圖案缺失,和/或圖案偏移,和/或圖案形變;
當基板圖案陣列中圖案完整和一致時,則特征頻率對應的位置處無雜訊峰;當基板圖案陣列中圖案缺失時,則特征頻率對應的位置處出現(xiàn)雜訊峰,且在低頻位置出現(xiàn)雜訊峰,當圖案連續(xù)缺失數(shù)目增多,則特征頻率對應的位置處出現(xiàn)的雜訊峰向左移動;
當基板圖案陣列中圖案形變膨脹時,則特征頻率對應的右移位置處出現(xiàn)雜訊峰;
當基板圖案陣列中圖案偏移時,則在高頻域上出現(xiàn)雜訊峰。
2.根據(jù)權利要求1所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述數(shù)值化處理步驟中,包括
像素點灰度值計算步驟,用以計算所述灰度圖中每一像素點的灰度值;
“灰度值-位置坐標”曲線圖建立步驟,以像素點的獲取時的次序或方向為橫坐標,該橫坐標為位置坐標方向,以與所述位置坐標對應的像素點的灰度值分布為縱坐標,建立“灰度值-位置坐標”的曲線圖。
3.根據(jù)權利要求2所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述傅里葉轉(zhuǎn)換步驟中,包括將“灰度值-位置坐標”曲線圖中的某一位置的波形信號分解成有限個已知正弦或者余弦信號的和值,并對有限個已知正弦或者余弦信號的和值形成的信號作帶通濾波,轉(zhuǎn)換成頻率域的“強度-頻率”信號的圖形。
4.根據(jù)權利要求3所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,在所述頻率域的“強度-頻率”信號圖形中,特征頻率表示有限個已知主頻率信號的合集,其中,主頻率位置與基板圖案陣列的分布的密度強相關。
5.根據(jù)權利要求4所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,在對比分析步驟中,包括根據(jù)特征頻率的相對位置或絕對位置,判斷基板圖案陣列的周期分布及尺寸規(guī)格是否滿足設計要求。
6.根據(jù)權利要求5所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述基板圖案陣列包括像素定義層的像素圖案、間隙控制層的PS柱圖案以及金屬層的金屬走線圖案。
7.根據(jù)權利要求6所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述基板圖案陣列中,圖案的尺寸范圍為圖案的密范圍為10ppi-106ppi。
8.根據(jù)權利要求7所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述灰度圖獲取步驟中,采用CCD相機對基板圖案陣列進行掃描,掃描速度為1m/s。
9.根據(jù)權利要求8所述的基板圖案陣列的完整性檢測方法,其特征在于,所述特征頻率有效范圍為
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





