[發明專利]掩模坯及其制造方法、半色調掩模及其制造方法

在審

• 申請號: 201811099364.4
• 申請日: 2018-09-20
• 公開（公告）號: CN109782526A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 諸沢成浩
• 申請（專利權）人: 愛發科成膜株式會社
• 主分類號: G03F1/32
• 分類號: G03F1/32
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 刁興利;王珍仙

本發明提供掩模坯及其制造方法、半色調掩模及其制造方法。本發明的掩模坯具有成為半色調掩模的層，所述掩模坯具有：耐化學品層，提高了耐化學品性；和均勻透射率層，從i線到g線的波段中半透射率的變動幅度被控制在規定范圍內，所述耐化學品層及所述均勻透射率層中的含氮率不同。

技術領域

本發明涉及一種適用于掩模坯、半色調掩模、掩模坯的制造方法及半色調掩模的制造方法的技術。

背景技術

FPD(Flat panel display，平板顯示器)用的陣列基板通過使用多個掩模來制造。為了減少工序，可通過使用半透射性的半色調掩模來削減掩模張數。而且，在有機EL(電致發光)顯示器等中為了在有機絕緣膜形成開口部，需要分多步控制有機絕緣膜的膜厚。因此，半色調掩模的重要程度一直增加。

專利文獻1：日本專利第4516560號公報

專利文獻2：日本專利公開2008-052120號公報

對于這種半色調掩模，要求在曝光時適應多波長曝光，即要求透射率的波長依賴性較小的特性。然而，已知作為在透射率的波長依賴性較小的半色調掩模中使用的膜，優選使用不會氧化或氮化的金屬膜。

另一方面，為了從掩模中去除影響光學特性的污染物質，需要使用酸性或堿性的化學液體來清洗掩模。已知在該清洗工序中不會氧化或氮化的金屬膜對堿溶液的耐性較差。

然而，對于在半色調掩模中使用的金屬膜來說，已知促進膜的氧化或氮化與對堿溶液的耐性(耐化學液體性)之間具有此消彼長的關系。

在半色調掩模中，要求同時實現透射率的波長依賴性較小及耐化學液體性較強的半色調膜。

發明內容

本發明鑒于上述情況而提出的，其目的是實現一種同時具有較小的透射率的波長依賴性及較強的耐化學液體性的半色調膜。

本發明的第一方式所涉及的掩模坯通過以下技術方案解決上述課題。一種掩模坯，具有成為半色調掩模的層，所述掩模坯具有：耐化學品層，提高了耐化學品性；和均勻透射率層，從i線到g線的波段中半透射率的變動幅度被控制在規定范圍內，所述耐化學品層及所述均勻透射率層中的含氮率不同。

在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，所述耐化學品層更優選位于比所述均勻透射率層更靠外側。

在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，所述耐化學品層的氮濃度可以比所述均勻透射率層的氮濃度高。

而且，在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，優選在所述耐化學品層和所述均勻透射率層中，所述半透射率的變動幅度相對于所述耐化學品層的膜厚具有向下凸出的輪廓。

而且，在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，所述耐化學品層和所述均勻透射率層可由硅化物構成。

而且，在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，優選所述耐化學品層的氮濃度為36atm％以上。

在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，所述均勻透射率層的氮濃度可為35atm％以下。

而且，在本發明的第一方式所涉及的掩模坯中，所述耐化學品層的膜厚可為20nm以下。

而且，本發明的第二方式所涉及的半色調掩模可通過使用上述第一方式所涉及的掩模坯來制造。

而且，本發明的第三方式所涉及的掩模坯的制造方法為上述第一方式所涉及的掩模坯的制造方法，其可在所述耐化學品層和所述均勻透射率層的成膜時，使氮氣分壓彼此不同。

而且，本發明的第四方式所涉及的半色調掩模的制造方法可在所述耐化學品層和所述均勻透射率層的成膜時，使氮氣分壓彼此不同。