[發(fā)明專利]掩模坯及其制造方法、半色調(diào)掩模及其制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811099364.4
• 申請(qǐng)日: 2018-09-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109782526A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 諸沢成浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 愛(ài)發(fā)科成膜株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/32
• 分類號(hào): G03F1/32
• 代理公司: 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 刁興利;王珍仙

1.一種掩模坯，具有成為半色調(diào)掩模的層，所述掩模坯具有：

耐化學(xué)品層，提高了耐化學(xué)品性；和

均勻透射率層，從i線到g線的波段中半透射率的變動(dòng)幅度被控制在規(guī)定范圍內(nèi)，

所述耐化學(xué)品層及所述均勻透射率層中的含氮率不同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模坯，

所述耐化學(xué)品層位于比所述均勻透射率層更靠外側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

所述耐化學(xué)品層的氮濃度比所述均勻透射率層的氮濃度高。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

在所述耐化學(xué)品層和所述均勻透射率層中，所述半透射率的變動(dòng)幅度相對(duì)于所述耐化學(xué)品層的膜厚具有向下凸出的輪廓。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

在所述耐化學(xué)品層和所述均勻透射率層中，在405nm的透射率為28～29％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

所述耐化學(xué)品層和所述均勻透射率層由硅化物構(gòu)成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

所述耐化學(xué)品層的氮濃度為36atm％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

所述均勻透射率層的氮濃度為35atm％以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模坯，

所述耐化學(xué)品層的膜厚為20nm以下。

10.一種半色調(diào)掩模，其使用權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的掩模坯來(lái)制造而成。

11.一種掩模坯的制造方法，

其為權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的掩模坯的制造方法，

在所述耐化學(xué)品層和所述均勻透射率層的成膜時(shí)，使氮?dú)夥謮罕舜瞬煌?/p>

12.一種半色調(diào)掩模的制造方法，

其為權(quán)利要求10所述的半色調(diào)掩模的制造方法，

在所述耐化學(xué)品層和所述均勻透射率層的成膜時(shí)，使氮?dú)夥謮罕舜瞬煌?/p>