[發明專利]一種硅基光柵化源極太赫茲探測器在審
| 申請號: | 201811094805.1 | 申請日: | 2018-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN109449222A | 公開(公告)日: | 2019-03-08 |
| 發明(設計)人: | 馬建國;劉亞軒;傅海鵬 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | H01L31/0232 | 分類號: | H01L31/0232;H01L31/119 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 杜文茹 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 絕緣層 漏極 源極 太赫茲信號 襯底層 溝道層 太赫茲探測器 光柵結構 光柵化 晶體管 硅基 嵌入 等間隔排布 交流電信號 晶體管源極 直流電信號 依次設置 耦合效率 耦合 上端面 頻段 底端 檢波 條源 探測 輸出 轉化 | ||
1.一種硅基光柵化源極太赫茲探測器,包括有MOS管,所述MOS管包括有由下至上依次設置的襯底層(1)、溝道層(2)和絕緣層(3),其特征在于,所述的襯底層(1)一端的上端面設置有嵌入在所述溝道層(2)和絕緣層(3)內的漏極(4),所述的絕緣層(3)上與所述漏極(4)相鄰的設置有柵極(6),所述柵極(6)遠離漏極(4)的一側設置有等間隔排布的光柵結構的源極,所述光柵結構的源極中的每一條源極(5)均嵌入在所述溝道層(2)和絕緣層(3)內,且底端與所述襯底層(1)相連接。
2.根據權利要求1所述的一種硅基光柵化源極太赫茲探測器,其特征在于,所述光柵結構的源極包括有3條以上的源極(5)。
3.根據權利要求1所述的一種硅基光柵化源極太赫茲探測器,其特征在于,所述MOS管的漏極(4)連接低噪聲放大器(7)的正向輸入端,源極(5)接地,柵極(6)連接輸入電壓。
4.根據權利要求1所述的一種硅基光柵化源極太赫茲探測器,其特征在于,所述的MOS管根據摻雜區域和雜質不同,構成NMOS管或PMOS管。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





