[發明專利]一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統

在審

• 申請號: 201811094079.3
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN110917556A
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 康榮鑫;陳丹
• 申請（專利權）人: 南京合創工程設計有限公司
• 主分類號: A62D3/30
• 分類號: A62D3/30;A62D101/22
• 代理公司: 江蘇舜點律師事務所 32319
• 代理人: 苗武松

1.一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：該系統包括洗滌塔和乙二胺四乙酸鈉配液罐；

所述洗滌塔用于將通過泄漏物料進料管線進入洗滌塔中的氯硅烷及高聚物進行處理，所述泄漏物料進料管線上設有進料閥門，所述洗滌塔內設有第一塔板和第一再沸器，所述洗滌塔上設有第一溫度計，所述洗滌塔底部設有第一排廢管線，所述第一排廢管線上設有第一排廢閥門；

所述乙二胺四乙酸鈉配液罐用于配置清理氯硅烷及高聚物的乙二胺四乙酸鈉液體，所述乙二胺四乙酸鈉配液罐頂部設有乙二胺四乙酸鈉進料管線，所述乙二胺四乙酸鈉進料管線上設有乙二胺四乙酸鈉進料閥門，所述乙二胺四乙酸鈉配液罐的兩側分別設有第一進液管線和進水管線，所述進水管線上設有進水閥門，所述第一進液管線上設有第一進液閥門，所述第一進液管線與洗滌塔上方相連，所述第一進液閥門與洗滌塔之間設有洗滌塔液位指示器。

2.如權利要求1所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：該系統還包括蒸餾塔；

所述蒸餾塔用于將洗滌塔處理過的氯硅烷及高聚物進行二次清理，所述蒸餾塔內設有第二塔板和第二再沸器，蒸餾塔上設有第二溫度計，所述蒸餾塔的底部設有第二排廢管線，所述第二排廢管線上設有第二排廢閥門，所述蒸餾塔與洗滌塔之間連接有第一氣相出口管線，所述蒸餾塔與乙二胺四乙酸鈉配液罐之間連接有第二進液管線，所述第二進液管線上設有第二進液閥門，所述第二進液閥門與蒸餾塔之間設有蒸餾塔液位指示器。

3.如權利要求2所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：該系統還包括氣體過濾器、冷凝罐和回流泵；

所述氣體過濾器與蒸餾塔之間連接有第二氣相出口管線，所述氣體過濾器的一端設有排氣管線，所述氣體過濾器與冷凝罐之間連接有過濾管線，所述冷凝罐與回流泵之間連接有冷凝出口管線，所述回流泵與洗滌塔之間連接有回流出口管線。

4.如權利要求3所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：所述冷凝罐內設有冷凝器。

5.如權利要求1所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：所述第一進液閥門與洗滌塔液位指示器之間聯鎖控制。

6.如權利要求2所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：所述第二進液閥門與蒸餾塔液位指示器之間聯鎖控制。

7.如權利要求1所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：所述第一再沸器使用釜式再沸器。

8.如權利要求2所述的一種氯硅烷及高聚物泄露清理系統，其特征在于：所述第二再沸器使用臥式再沸器。