[發(fā)明專利]改善毛刺的方法及柔性基板的預處理方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811087459.4 | 申請日: | 2018-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN109188748A | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 柳發(fā)霖;方翠怡;董思娜;譚曉彬;李林 | 申請(專利權(quán))人: | 信利半導體有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 潘霞 |
| 地址: | 516600 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 毛刺 柔性基板 后續(xù)工序 切割口 預切割 壓平 預處理 預設(shè)壓力 良品率 板面 良率 施壓 壓覆 平整 驗證 側(cè)面 發(fā)現(xiàn) 生產(chǎn) | ||
本發(fā)明涉及一種改善毛刺的方法,用于改善柔性基板預切割后于切割口處產(chǎn)生的毛刺,其特征在于,包括以下步驟:取一平板,將所述平板壓覆于所述柔性基板上對應(yīng)所述毛刺的位置,施與預設(shè)壓力,將所述毛刺壓低或壓平。經(jīng)過驗證發(fā)現(xiàn),在預切割后,柔性基板的其中一側(cè)面于切割口處會形成毛刺,該毛刺可以通過采用平板施壓的方式來壓低毛刺的高度,甚至壓平毛刺,使柔性基板可以滿足后續(xù)工序的板面平整的要求,在很大程度上提高柔性基板的良品率,以及后續(xù)工序的良率,進而提高了生產(chǎn)效益。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及柔性基板的制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及改善毛刺的方法及柔性基板的預處理方法。
背景技術(shù)
柔性基板如彩色濾光片基板在制作過程中,為了方便后期的綁定可以在TFT基板(Thin Film Transistor,薄膜晶體管基板)上順利的進行,需要事先在CF基板(ColorFilter,彩色濾光片基板)上進行預切割,暴露出TFT基板上的bonding位(打線位)。在預切割后經(jīng)過ODF制程(One Drop Filling,液晶滴下制程),隨后在切割裂片之后去掉CF基板上多余的部分。
但是,因為預切割時,CF基板結(jié)構(gòu)的限制,在經(jīng)過預切割后會導致在切縫兩邊形成大量很高的毛刺,影響ODF等制程的順利進行,使產(chǎn)品良品率下降。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對上述問題,提供一種改善毛刺的方法,在不損傷CF基板情況下,有效改善毛刺。
一種改善毛刺的方法,用于改善柔性基板預切割后于切割口處產(chǎn)生的毛刺,包括以下步驟:
取一平板,將所述平板壓覆于所述柔性基板上對應(yīng)所述毛刺的位置,施與預設(shè)壓力,將所述毛刺壓低或壓平。
上述改善毛刺的方法,經(jīng)過驗證發(fā)現(xiàn),在預切割后,柔性基板的其中一側(cè)面于切割口處會形成毛刺,該毛刺可以通過采用平板施壓的方式來壓低毛刺的高度,甚至壓平毛刺,使柔性基板可以滿足后續(xù)工序的板面平整的要求,在很大程度上提高柔性基板的良品率,以及后續(xù)工序的良率,進而提高了生產(chǎn)效益。
在其中一個實施例中,改善毛刺的方法還包括以下步驟:將所述平板壓覆于所述柔性基板上之前,采用清潔劑清洗切割口。
在其中一個實施例中,清潔劑為酒精。
在其中一個實施例中,平板的表面粗糙度Ra≤0.4μm。
在其中一個實施例中,平板為玻璃板或陶瓷板。
在其中一個實施例中,預設(shè)壓力為0.11MPa~0.3MPa。
在其中一個實施例中,平板壓低或壓平所述毛刺在濕度為50%~70%,溫度為22±3℃的環(huán)境下進行。
在其中一個實施例中,柔性基板包括絕緣層,所述毛刺位于所述絕緣層的切割口處。
在其中一個實施例中,絕緣層采用有機高分子材料制成。
本發(fā)明還提供一種柔性基板的預處理方法,包括以下步驟:
柔性基板進行預切割,其中,切割口處產(chǎn)生毛刺;
取一平板,將所述平板壓覆于所述柔性基板上對應(yīng)所述毛刺的位置;及
施與預設(shè)壓力,將所述毛刺壓低或壓平,所述預設(shè)壓力為0.11MPa~0.3MPa。
附圖說明
圖1為本發(fā)明改善毛刺的方法的第一個實施例改善毛刺前的柔性基板的示意圖;
圖2為圖1的柔性基板改善毛刺后的示意圖;
圖3為本發(fā)明改善毛刺的方法的第二個實施例改善毛刺前的柔性基板的示意圖;
圖4為圖3的柔性基板改善毛刺后的示意圖。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





