[發(fā)明專利]改善毛刺的方法及柔性基板的預(yù)處理方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811087459.4 | 申請日： | 2018-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN109188748A | 公開（公告）日： | 2019-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 柳發(fā)霖;方翠怡;董思娜;譚曉彬;李林 | 申請（專利權(quán)）人： | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人： | 潘霞 |
| 地址： | 516600 *** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 毛刺 柔性基板 后續(xù)工序 切割口 預(yù)切割 壓平 預(yù)處理 預(yù)設(shè)壓力 良品率 板面 良率 施壓 壓覆 平整 驗證 側(cè)面 發(fā)現(xiàn) 生產(chǎn) | ||
1.一種改善毛刺的方法，用于改善柔性基板預(yù)切割后于切割口處產(chǎn)生的毛刺，其特征在于，包括以下步驟：
取一平板，將所述平板壓覆于所述柔性基板上對應(yīng)所述毛刺的位置，施與預(yù)設(shè)壓力，將所述毛刺壓低或壓平。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，還包括以下步驟：將所述平板壓覆于所述柔性基板上之前，采用清潔劑清洗切割口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述清潔劑為酒精。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述平板的表面粗糙度Ra≤0.4μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述平板為玻璃板或陶瓷板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)壓力為0.11MPa～0.3MPa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述平板壓低或壓平所述毛刺在濕度為50％～70％，溫度為22±3℃的環(huán)境下進(jìn)行。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述柔性基板包括絕緣層，所述毛刺位于所述絕緣層的切割口處。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的改善毛刺的方法，其特征在于，所述絕緣層采用有機(jī)高分子材料制成。
10.一種柔性基板的預(yù)處理方法，其特征在于，包括以下步驟：
柔性基板進(jìn)行預(yù)切割，其中，切割口處產(chǎn)生的毛刺；
取一平板，將所述平板壓覆于所述柔性基板上對應(yīng)所述毛刺的位置；及
施與預(yù)設(shè)壓力，將所述毛刺壓低或壓平，所述預(yù)設(shè)壓力為0.11MPa～0.3MPa。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于信利半導(dǎo)體有限公司，未經(jīng)信利半導(dǎo)體有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811087459.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
