[發明專利]一種高分子納米碗結構的制備方法

在審

• 申請號: 201811087104.5
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN109232933A
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 徐林;趙雪宇;陳正件;張歡歡
• 申請（專利權）人: 貴州師范學院
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08J7/00;C08J9/26;C08L33/12;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 貴陽東圣專利商標事務有限公司 52002
• 代理人: 郭嬌

1.一種高分子納米碗結構的制備方法，包括如下步驟：

（1）混合液的制備：將摩爾質量為50 kg/mol、分散度為1.1的聚甲基丙烯酸甲酯粉末與摩爾質量為48 kg/mol、分散度為1.02的聚苯乙烯粉末按1:9；2:8；3:7和4:6的質量比混合；按每1ml甲苯加1-8mg混合粉末，制得1-8mg/ml混合高分子甲苯溶液；

（2）硅片的處理：將圓形單晶硅片切割成 1×1cm 大小的方形硅片，將切割后的硅片置于由 80% H₂SO₄、30% H₂O₂ 和去離子水按 100:35:15 的體積比配成的清洗液中70-90?C煮28-32分鐘，然后用去離子水沖洗干凈，放入塑料燒杯中，用氫氟酸液除去硅片上的氧化層，再用去離子水沖洗干凈后用氣體吹干，備用；

（3）薄膜的制備：將處理后的硅片置于臺式勻膠機上，滴配置好的混合高分子甲苯溶液在硅片上，以4000 rpm轉速，旋涂薄膜樣品；

（4）薄膜的干燥：將薄膜樣品置于真空干燥箱中，在真空中保持12-14小時，除去殘留的有機溶劑，然后用橢偏儀測定薄膜厚度；

（5）去潤濕：將高分子混合薄膜放入體積比為7/3/15的丁酮、丙酮、水的混合溶劑中退火10-15min；

（6）刻蝕：把去潤濕后的高分子薄膜泡在環己烷中刻蝕掉聚苯乙烯，即得分布均勻的高分子納米碗結構。

2.如權利要求1所述的一種高分子納米碗結構的制備方法，其特征在于：步驟（2）所述的氫氟酸液是由20%氫氟酸和去離子水按1:1的比例制備而成。

3.如權利要求1所述的一種高分子納米碗結構的制備方法，其特征在于：步驟（2）所述的氣體為高純氮氣。

4.如權利要求1所述的一種高分子納米碗結構的制備方法，其特征在于：步驟（4）所述的薄膜厚度為8nm。