[發(fā)明專利]一種靶材懸掛機(jī)構(gòu)及離子濺射鍍膜設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811078411.7
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN108893719A
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周予坤;王安平
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州浩聯(lián)光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 吳莎

本發(fā)明提供一種靶材懸掛機(jī)構(gòu)及離子濺射鍍膜設(shè)備，屬于光通信用元器件技術(shù)領(lǐng)域。其包括分水法蘭、通水柱以及上法蘭；分水法蘭的中部開設(shè)有安裝通孔，通水柱的一端連接于安裝通孔，另一端連接于上法蘭；分水法蘭的一端上開設(shè)有多個第一連接孔，另一端上開設(shè)有多個第二連接孔。該離子濺射鍍膜設(shè)備具有上述的靶材懸掛機(jī)構(gòu)，使得加工件表面膜厚均一性好且良品率高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光通信用元器件技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材懸掛機(jī)構(gòu)及離子濺射鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

離子束濺射鍍膜設(shè)備，是生產(chǎn)光通信用元器件波分復(fù)用濾光片所需的必要設(shè)備，此設(shè)備結(jié)構(gòu)中，作為核心布局的靶材懸掛機(jī)構(gòu)，通常采用如下布局：其主要結(jié)構(gòu)包括靶材懸掛機(jī)構(gòu)、離子源、待加工產(chǎn)品(圓形)以及膜厚補(bǔ)正裝置；其中靶材懸掛機(jī)構(gòu)的靶中心與離子源距離260mm-280mm，此為關(guān)鍵距離。

離子束濺射原理簡述：由離子源產(chǎn)生離子束流后，高能量的離子束流撞擊靶材，將靶材粒子濺射至待加工產(chǎn)品表面，形成鍍膜膜層。

現(xiàn)有靶材懸掛機(jī)構(gòu)的缺點(diǎn)主要體現(xiàn)在待加工產(chǎn)品表面膜厚均勻性差導(dǎo)致良品率低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于提供一種靶材懸掛機(jī)構(gòu)，此靶材懸掛機(jī)構(gòu)旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中靶材懸掛機(jī)構(gòu)操作不便捷的問題；

本發(fā)明的另一目的在于提供一種離子濺射鍍膜設(shè)備，此離子濺射鍍膜設(shè)備旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中靶材懸掛機(jī)構(gòu)操作不便捷的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是：

一種靶材懸掛機(jī)構(gòu)，所述靶材懸掛機(jī)構(gòu)包括分水法蘭、通水柱以及上法蘭；所述分水法蘭的中部開設(shè)有安裝通孔，所述通水柱的一端連接于所述安裝通孔，另一端連接于所述上法蘭；所述分水法蘭的一端上開設(shè)有多個第一連接孔，另一端上開設(shè)有多個第二連接孔。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述分水法蘭內(nèi)安裝有第一冷卻水循環(huán)管道，所述通水柱內(nèi)安裝有與所述第一冷卻水循環(huán)管道連接的第二冷卻水循環(huán)管道。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述分水法蘭的一端上設(shè)置有第一連接槽，多個所述第一連接孔沿所述第一連接槽的周向分布，多個所述第一連接孔之間的間距相同。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述第一連接槽中安裝有第一無氧銅墊片。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述分水法蘭的另一端上設(shè)置有第二連接槽，多個所述第二連接孔沿所述第二連接槽的周向分布，多個所述第二連接孔之間的間距相同。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述第二連接槽中安裝有第二無氧銅墊片。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述通水柱的一端采用水密或者氣密的焊接方式連接于所述安裝通孔，另一端采用水密或者氣密的焊接方式連接于所述上法蘭。

一種離子濺射鍍膜設(shè)備，所述離子濺射鍍膜設(shè)備包括第一靶材、第二靶材、濺射離子源、膜厚補(bǔ)正裝置、待加工件、支撐平臺以及以上所述的靶材懸掛機(jī)構(gòu)；

所述濺射離子源、所述靶材懸掛機(jī)構(gòu)、所述膜厚補(bǔ)正裝置以及所述待加工件均間隔地設(shè)置在所述支撐平臺上；

所述第一靶材通過將多個螺絲安裝在多個所述第一連接孔中與所述分水法蘭的一端連接，所述第二靶材通過將多個螺絲安裝在多個所述第二連接孔中與所述分水法蘭的另一端連接；

所述濺射離子源、所述靶材懸掛機(jī)構(gòu)以及所述待加工件不處于同一直線上；所述膜厚補(bǔ)正裝置與所述待加工件平行間隔設(shè)置。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述分水法蘭所在的平面與所述第一靶材、所述第二靶材所在的平面之間的角度范圍為60°～65°；所述第一靶材的靶中心、所述第二靶材的靶中心與所述濺射離子源之間的距離范圍為330mm～350mm。