[發(fā)明專利]一種靶材懸掛機構(gòu)及離子濺射鍍膜設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811078411.7
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN108893719A
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周予坤;王安平
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州浩聯(lián)光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 吳莎

1.一種靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述靶材懸掛機構(gòu)包括分水法蘭、通水柱以及上法蘭；所述分水法蘭的中部開設(shè)有安裝通孔，所述通水柱的一端連接于所述安裝通孔，另一端連接于所述上法蘭；所述分水法蘭的一端上開設(shè)有多個第一連接孔，另一端上開設(shè)有多個第二連接孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述分水法蘭內(nèi)安裝有第一冷卻水循環(huán)管道，所述通水柱內(nèi)安裝有與所述第一冷卻水循環(huán)管道連接的第二冷卻水循環(huán)管道。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述分水法蘭的一端上設(shè)置有第一連接槽，多個所述第一連接孔沿所述第一連接槽的周向分布，多個所述第一連接孔之間的間距相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述第一連接槽中安裝有第一無氧銅墊片。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述分水法蘭的另一端上設(shè)置有第二連接槽，多個所述第二連接孔沿所述第二連接槽的周向分布，多個所述第二連接孔之間的間距相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述第二連接槽中安裝有第二無氧銅墊片。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材懸掛機構(gòu)，其特征在于：所述通水柱的一端采用水密或者氣密的焊接方式連接于所述安裝通孔，另一端采用水密或者氣密的焊接方式連接于所述上法蘭。

8.一種離子濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述離子濺射鍍膜設(shè)備包括第一靶材、第二靶材、濺射離子源、膜厚補正裝置、待加工件、支撐平臺以及權(quán)利要求1至7任一項所述的靶材懸掛機構(gòu)；

所述濺射離子源、所述靶材懸掛機構(gòu)、所述膜厚補正裝置以及所述待加工件均間隔地設(shè)置在所述支撐平臺上；

所述第一靶材通過將多個螺絲安裝在多個所述第一連接孔中與所述分水法蘭的一端連接，所述第二靶材通過將多個螺絲安裝在多個所述第二連接孔中與所述分水法蘭的另一端連接；

所述濺射離子源、所述靶材懸掛機構(gòu)以及所述待加工件不處于同一直線上；所述膜厚補正裝置與所述待加工件平行間隔設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述分水法蘭所在的平面與所述第一靶材、所述第二靶材所在的平面之間的角度范圍為60°～65°；所述第一靶材的靶中心、所述第二靶材的靶中心與所述濺射離子源之間的距離范圍為330mm～350mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述分水法蘭與所述第一靶材的所在的平面與所述上法蘭、所述通水柱所在的軸線的軸心之間的距離范圍為95～105mm。