[發明專利]一種Y型228nm激光發射裝置

在審

• 申請號: 201811077064.6
• 申請日: 2018-09-15
• 公開（公告）號: CN109142300A
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 李再金;李林;趙志斌;曾麗娜;曲軼;彭鴻雁
• 申請（專利權）人: 海南師范大學
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種Y型228nm激光發射裝置，包括808nm半導體激光器；前后面鍍808nm增透膜的聚焦鏡；前面鍍914nm高反膜，808nm、1064nm和1342nm增透膜，后面鍍914nm高反膜，1064nm和1342nm增透膜的Nd:YVO₄；前面鍍入射角為15°時914nm高反膜，457nm、1064nm和1342 nm增透膜，后面鍍入射角為15°時228nm高反膜，457nm增透膜的平面鏡；前后面鍍457nm和914nm增透膜的LBO；凹面鍍457nm和914nm高反膜的平凹鏡；前后面鍍228nm和457nm增透膜的BBO；凹面鍍457nm高反膜、228nm增透膜，平面鍍228nm高反膜的平凹鏡；中心波長為228nm±5nm濾光片。該裝置實現了228nm激光發射。

技術領域

本發明涉及全固態激光技術領域，特別涉及一種Y型228nm激光發射裝置。

背景技術

原子熒光光譜法是以原子在輻射能激發下發射的熒光強度進行定量分析的發射光譜分析法，因為其譜線簡單、檢出限低、重復性高、線性范圍寬等優點受到廣大研究者的青睞并獲得廣泛使用。原子熒光光譜法采用的光源通常為空心陰極燈或氙弧燈，其存在很多缺點，壽命短、不穩定，同時存在熒光猝滅效應和散射光的干擾等，光源的缺點導致檢測精度偏高。原子的熒光強度在一定條件下和原子熒光激發光源的強度成正比，通過提高激發光源強度則可進一步提高儀器的檢出限，提高檢測的穩定性。用激光替代傳統激發光源，能提高原子光譜檢測精度。針對環境重金屬污染，228nm深紫外固態激光是一種高強度光源，可作為原子熒光光譜檢測重金屬污染的激發光源，進而提高儀器的檢出限和檢測的穩定性。

發明內容

本發明的目的在于提出一種Y型228nm激光發射裝置。

一種Y型228nm激光發射裝置，包括808nm半導體激光器、808nm聚焦鏡、Nd:YVO₄激光晶體、平面鏡M1、LBO倍頻晶體、平凹鏡M2、BBO倍頻晶體、平凹鏡M3和濾光片。

其特征在于：

808nm半導體激光器輸出波長范圍為808±3nm，連續輸出最大功率為5W。

808nm聚焦鏡前后表面鍍有808nm處透過率大于99%的光學膜。

Nd:YVO4激光晶體前表面鍍有914nm處反射率大于99%，808nm、1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學膜，后表面鍍有914nm處透過率大于99%，1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學膜。

平面鏡M1前表面鍍有入射角為15°時914nm處反射率大于99%，457nm、1064nm和1342nm處透過率大于98%的光學膜，后表面鍍有入射角為15°時228nm處反射率大于95%，457nm處透過率大于99%的光學膜。

LBO倍頻晶體前后表面鍍有457nm和914nm處透過率大于99%的光學膜。

平凹鏡M2凹面鍍有457nm和914nm處反射率大于99%的光學膜，平面不鍍光學膜。

BBO倍頻晶體前后表面鍍有228nm和 457nm處透過率大于99%的光學膜。

平凹鏡M3凹面鍍有457nm處反射率大于99%、228nm處透過率大于95%的光學膜，平面鍍有228nm處透過率大于99%光學膜。

濾光片中心波長為228nm±5nm、半高全寬為35nm±10nm、峰值透過率大于30%、截止帶為350nm到1150nm。

附圖說明

圖1是本發明具體實施方式的裝置圖。

具體實施方式

下面結合圖1對本發明進一步詳細說明。