[發(fā)明專利]一種Y型228nm激光發(fā)射裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811077064.6 | 申請日： | 2018-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN109142300A | 公開（公告）日： | 2019-01-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李再金;李林;趙志斌;曾麗娜;曲軼;彭鴻雁 | 申請（專利權(quán)）人： | 海南師范大學(xué) |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 571158 *** | 國省代碼： | 海南;46 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 增透膜 高反膜 前后面 激光發(fā)射裝置 平凹鏡 入射角 凹面 激光發(fā)射 中心波長 裝置實(shí)現(xiàn) 聚焦鏡 濾光片 平面鍍 平面鏡 | ||
1.一種Y型228nm激光發(fā)射裝置，其特征在于，包括：
808nm半導(dǎo)體激光器；808nm聚焦鏡；前表面鍍有914nm處反射率大于99%，808nm、1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學(xué)膜，后表面鍍有914nm處透過率大于99%，1064nm和1342nm處透過率大于95%光學(xué)膜的Nd:YVO4激光晶體；前表面鍍有入射角為15°時914nm處反射率大于99%，457nm、1064nm和1342nm處透過率大于98%的光學(xué)膜，后表面鍍有入射角為15°時228nm處反射率大于95%，457nm處透過率大于99%光學(xué)膜的平面鏡M1；前后表面鍍有457nm和914nm處透過率大于99%光學(xué)膜的LBO倍頻晶體；凹面鍍有457nm和914nm處反射率大于99%的光學(xué)膜，平面不鍍光學(xué)膜的平凹鏡M2；前后表面鍍有228nm和457nm處透過率大于99%光學(xué)膜的BBO倍頻晶體；凹面鍍有457nm處反射率大于99%、228nm處透過率大于95%的光學(xué)膜，平面鍍有228nm處透過率大于99%光學(xué)膜的平凹鏡M3；中心波長228nm±5nm、半高全寬35nm±10nm和峰值透過率大于30%、截止帶為350nm到1150nm的濾光片。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
