[發明專利]蒸發源和蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201811070879.1
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109972094B
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 風間良秋;佐藤聰
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

本發明提供能夠提高冷卻效率的蒸發源和蒸鍍裝置。蒸發源(10)具備：收容要蒸鍍于基板的物質的材料的坩堝(100)；以圍繞坩堝(100)的方式設置且加熱坩堝(100)的加熱體(200)；以及以圍繞加熱體(200)的方式設置且遮斷熱的反射體(300)，其特征在于，該蒸發源(10)具備：以沿著反射體本體(310)的內壁面的方式設于反射體本體(310)的內部且供冷卻液流動的冷卻液室(311)；以及設于冷卻液室(311)內，使冷卻液從冷卻液室(311)的下方排出的排液管(340)。

技術領域

本發明涉及為了進行真空蒸鍍而使用的蒸發源和蒸鍍裝置。

背景技術

在蒸發源中具備遮斷來自加熱坩堝的加熱體的熱的構造。作為以往構造，公知有將管道狀的配管卷繞在坩堝的周圍，使冷卻水在該配管中流動的構造(參照專利文獻1)。

可是，在這樣的構造的情況下，由于供冷卻水流動的管道相對于坩堝等的接觸面積小，所以冷卻效率低。

專利文獻1：日本特開平6－10118號公報

發明內容

發明要解決的課題

本發明的目的在于，提供能夠提高冷卻效率的蒸發源和蒸鍍裝置。

用于解決課題的技術方案

為了解決上述課題，本發明采用以下的技術方案。

即、本發明的蒸發源具備：

坩堝，收容要蒸鍍于基板的物質的材料；

加熱體，以圍繞所述坩堝的方式設置，加熱該坩堝；以及

遮熱構造體，以圍繞所述加熱體的方式設置，遮斷熱，

其特征在于，

該蒸發源具備：

冷卻液室，以沿著所述遮熱構造體的內壁面的方式設置在該遮熱構造體的內部，且供冷卻液流動；以及

排液管，設于所述冷卻液室內，使冷卻液從該冷卻液室的下方排出。

發明的效果

如以上說明那樣，根據本發明，能夠提高冷卻效率。

附圖說明

圖1是本發明的實施例1的蒸鍍裝置的概略結構圖。

圖2是本發明的實施例1的蒸發源的俯視圖。

圖3是本發明的實施例1的蒸發源的側視圖。

圖4是本發明的實施例1的蒸發源的示意性的剖視圖。

圖5是本發明的實施例1的反射體的俯視圖。

圖6是本發明的實施例1的反射體的內部構造的概略結構圖。

圖7是本發明的實施例2的反射體的俯視圖。

圖8是本發明的實施例2的反射體的內部構造的概略結構圖。

圖9是本發明的實施例2的反射體的內部構造的概略結構圖。

圖10是本發明的實施例3的反射體的俯視圖。

圖11是本發明的實施例3的反射體的內部構造的概略結構圖。

具體實施方式

以下，參照圖面，基于實施例，例示性地詳細說明用于實施本發明的方式。但是，在該實施例中所記載的構成零件的尺寸、材質、形狀、其相對配置等，只要沒有特別特定的記載，本發明的范圍就不僅限定于這些。

(實施例1)