[發(fā)明專利]蒸發(fā)源和蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811070879.1
• 申請(qǐng)日: 2018-09-14
• 公開（公告）號(hào): CN109972094B
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 風(fēng)間良秋;佐藤聰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/26
• 分類號(hào): C23C14/26
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

1.一種蒸發(fā)源，具備：

坩堝，收容要蒸鍍于基板的材料；

加熱體，以圍繞所述坩堝的方式設(shè)置，加熱該坩堝；以及

遮熱構(gòu)造體，以圍繞所述加熱體的方式設(shè)置，遮斷熱，

其特征在于，

該蒸發(fā)源具備：

冷卻液室，以沿著所述遮熱構(gòu)造體的內(nèi)壁面的方式設(shè)置在該遮熱構(gòu)造體的內(nèi)部，且供冷卻液流動(dòng)；以及

排液管，設(shè)于所述冷卻液室內(nèi)，使冷卻液從該冷卻液室的下方排出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

該蒸發(fā)源具備供給通路，該供給通路以從所述遮熱構(gòu)造體的底面到所述冷卻液室內(nèi)的方式設(shè)置，且供給冷卻液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

該蒸發(fā)源具備排出通路，該排出通路以從所述冷卻液室內(nèi)到所述遮熱構(gòu)造體的底面的方式設(shè)置，且排出冷卻液，并且，

所述排液管的一端位于所述冷卻液室內(nèi)的上方，另一端連接于所述排出通路。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

設(shè)于所述排液管的一端側(cè)的端面的開口部朝向上方。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

所述冷卻液室由圓筒狀的空間形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

所述冷卻液室以在上下方向上分割的方式設(shè)置多個(gè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

所述遮熱構(gòu)造體以在周向上分割的方式設(shè)置多個(gè)，在各遮熱構(gòu)造體的內(nèi)部分別具備冷卻液室。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源，其特征在于，

在所述遮熱構(gòu)造體與所述加熱體之間，設(shè)有使來自該加熱體的熱反射的反射體。

9.一種蒸鍍裝置，其特征在于，

該蒸鍍裝置具備：

權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的蒸發(fā)源；以及

內(nèi)部配置所述蒸發(fā)源的腔室。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

該蒸鍍裝置具備：

所述遮熱構(gòu)造體的載置臺(tái)；

傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)，調(diào)整所述遮熱構(gòu)造體相對(duì)于所述載置臺(tái)的傾斜；

第1配管，以插通形成于所述腔室的第1插通孔內(nèi)的方式設(shè)置，且供向所述冷卻液室內(nèi)供給的冷卻液流動(dòng)；

彈性體制的第1墊圈，密封第1配管與第1插通孔之間的環(huán)狀間隙；

第2配管，以插通形成于所述腔室的第2插通孔內(nèi)的方式設(shè)置，且供從所述冷卻液室內(nèi)排出的冷卻液流動(dòng)；以及

彈性體制的第2墊圈，密封第2配管與第2插通孔之間的環(huán)狀間隙。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)由在各自的位置調(diào)整所述載置臺(tái)與所述遮熱構(gòu)造體的間隔的多個(gè)螺紋零件構(gòu)成。