[發明專利]濺射裝置及其使用方法

有效

• 申請號: 201811070875.3
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109943817B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 阿部大和;渡部新;青沼大介
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 朱龍

提供一種能夠提高冷卻液的排出性的濺射裝置及其使用方法，其特征在于，具有：環狀的第一冷卻液流路(R1)，形成于靶(110)和磁鐵單元(130)之間，流過冷卻靶(110)的冷卻液；第二冷卻液流路(R2)，設置于磁鐵單元(130)的內部，流過所述冷卻液；以及排液裝置(P2)，從第一冷卻液流路(R1)朝向第二冷卻液流路(R2)送入使所述冷卻液排出的氣體，并且第一冷卻液流路(R1)和第二冷卻液流路(R2)的連接部位(RJ)構成為能夠配置于環狀的第一冷卻液流路(R1)中的偏鉛垂方向下方的位置。

技術領域

本發明涉及磁控濺射方式的濺射裝置及其使用方法。

背景技術

已知有如下的技術：在磁控濺射方式的濺射裝置中，成為陰極的靶由圓筒狀的構件構成，且構成為在進行濺射時旋轉。在該技術中，靶附近的等離子體成為高溫，靶和磁鐵被加熱。若靶成為高溫，則可能會損傷，若磁鐵變得高溫則會減磁或者消磁。另外，在靶由襯管和通過粘接劑粘接于該襯管的外周面的靶材料構成的情況下，粘接劑可能會融化。因此，在上述那樣的濺射裝置中，設置有用于冷卻靶和磁鐵的冷卻液流路。

另外，在如上所述的濺射裝置中，磁鐵等被單元化，裝卸自由地構成于圓筒狀的靶的內部。由此，能夠容易地進行將磁鐵等單元化了的磁鐵單元的維護。

但是，由于在維護時若磁鐵單元的內部殘留有較多冷卻液，則會在維護時帶來阻礙，因此，優選在從靶內部取出磁鐵單元之前盡可能使冷卻液排出。參照圖11及圖12對現有例的濺射裝置中的冷卻液排出機構說明。圖11及圖12表示現有例的靶內部的冷卻液流路的概略結構。

在現有例中的靶700的內部，設置有形成于靶700和磁鐵單元之間的第一冷卻液流路R1、設置于磁鐵單元的內部的第二冷卻液流路R2。在使冷卻液W排出的情況下，從第一冷卻液流路R1朝向第二冷卻液流路送入氣體(通常為空氣)(參照圖11及圖12中的實線箭頭S)。在送入氣體的空間為密閉空間的情況下，冷卻液W受到壓力，冷卻液W從第二冷卻液流路R2排出到靶700的外部(參照圖11中的虛線箭頭T)。

并且，若冷卻液W的液面下降至第二冷卻液流路R2的內部，則形成從第一冷卻液流路R1向第二冷卻液流路R2的排出氣體的流路(參照圖12)。由此，對于冷卻液W，變得幾乎不施加將冷卻液W向靶700的外部壓出方向的壓力，不再進行冷卻液W的排出。這樣，由于在現有例的濺射裝置中冷卻液沒有充分排出，因此維護時帶來障礙。

另外，已知有如下技術：為了消除這樣的問題，通過在冷卻液流路內使氣囊構件膨脹，來促成冷卻液的排出(參照專利文獻1)。但是，在這樣的技術中，為了使氣囊構件膨脹，不僅需要另外的機構，在維護前還會增加用于使氣囊構件膨脹的工序。因此，也會增加成本。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2013-100568號公報

發明內容

[本發明所要解決的問題]

本發明的目的在于提供一種能夠提高冷卻液的排出性的濺射裝置及其使用方法。

[用于解決課題的手段]

本發明為了解決上述課題而采用以下的手段。

即，本發明的濺射裝置是在靶與基板之間形成磁場的狀態下進行濺射的磁控濺射方式的濺射裝置，在所述基板形成由所述靶的構成原子形成的薄膜，所述濺射裝置的特征在于，具備：

圓筒狀的所述靶，設置于與所述基板相對的位置，且在濺射時旋轉；

磁鐵單元，具有使所述磁場形成的磁鐵和支承該磁鐵的支承構件，裝卸自如地設置于所述靶的內部；

環狀的第一冷卻液流路，形成于所述靶和所述磁鐵單元之間，冷卻所述靶的冷卻液流過該第一冷卻流路；