[發(fā)明專利]濺射裝置及其使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811070875.3
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109943817B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 阿部大和;渡部新;青沼大介
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會社
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 朱龍

1.一種濺射裝置，是在圓筒狀的靶與基板之間形成磁場的狀態(tài)下進(jìn)行濺射的磁控濺射方式的濺射裝置，所述靶設(shè)置于與所述基板相對的位置，且在濺射時旋轉(zhuǎn)，所述濺射裝置的特征在于，

具備：

磁鐵單元，所述磁鐵單元具有形成所述磁場的磁鐵和支承該磁鐵的支承構(gòu)件，所述磁鐵單元設(shè)置于所述靶的內(nèi)部；

環(huán)狀的第一冷卻液流路，所述第一冷卻液流路形成于所述靶和所述磁鐵單元之間，冷卻所述靶的冷卻液流過所述第一冷卻液流路；以及

第二冷卻液流路，所述第二冷卻液流路設(shè)置于所述磁鐵單元的內(nèi)部，所述冷卻液流過所述第二冷卻液流路，

在從所述第一冷卻液流路朝向所述第二冷卻液流路送入氣體的期間，所述第一冷卻液流路和所述第二冷卻液流路的連接部位維持在所述第一冷卻液流路中的偏鉛垂方向下方的位置。

2.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

在所述期間，所述連接部位維持在比所述靶的旋轉(zhuǎn)中心軸線靠鉛垂方向下方的位置。

3.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

所述第一冷卻液流路配置為與所述靶的旋轉(zhuǎn)中心軸線同心。

4.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

在所述期間，所述連接部位維持在能夠配置于環(huán)狀的第一冷卻液流路中的從鉛垂方向的正下的位置開始的±45°的范圍內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

在所述期間，所述連接部位相對于所述磁鐵隔著所述靶的旋轉(zhuǎn)中心軸線配置在相反側(cè)。

6.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

具備沿著所述靶的旋轉(zhuǎn)中心軸線延伸設(shè)置的第三冷卻液流路，

所述第二冷卻液流路將所述第一冷卻液流路與所述第三冷卻液流路連接，

從所述第一冷卻液流路按所述第二冷卻液流路、所述第三冷卻液流路的順序送入所述氣體。

7.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

具有：

一對第一配管，所述一對第一配管平行于所述靶的旋轉(zhuǎn)中心軸線地延伸；以及

一對第二配管，所述一對第二配管從所述一對第一配管朝向第一冷卻液流路分別延伸，

由所述第一配管的內(nèi)部空間和所述第二配管的內(nèi)部空間形成所述第二冷卻液流路，并且

一對所述第二配管在所述旋轉(zhuǎn)中心軸線方向的不同位置分別連接于一對所述第一配管，并且在朝向所述旋轉(zhuǎn)中心軸線方向觀察的情況下，一對所述第二配管連接于所述第一冷卻液流路的位置重合。

8.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

由形成于所述靶的內(nèi)周面與所述磁鐵單元的外周面之間的圓筒狀的空間構(gòu)成所述第一冷卻液流路，并且

所述連接部位是形成于所述磁鐵單元的外周面且與該磁鐵單元的內(nèi)部連通的開口部。

9.如權(quán)利要求1所述的濺射裝置，其特征在于，

在所述期間，決定所述磁鐵單元的旋轉(zhuǎn)方向的位置，從而使所述第一冷卻液流路和所述第二冷卻液流路的連接部位相比于磁鐵配置在鉛垂方向下方。

10.一種濺射裝置的使用方法，是權(quán)利要求1～9中任一項所述的濺射裝置的使用方法，其特征在于，

在進(jìn)行濺射時，使所述磁鐵朝向鉛垂方向下方，使所述連接部位相比于所述磁鐵配置于鉛垂方向上方，

在送入所述氣體時，使所述連接部位相比于所述磁鐵配置于鉛垂方向下方。