[發明專利]一種OLED顯示面板及其制作方法，以及顯示裝置

在審

• 申請號: 201811062936.1
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN109256488A
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發明（設計）人: 胡偉頻;姜明宵;孫曉;邱云;王丹
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 張京波;曲鵬

本發明實施例公開了一種OLED顯示面板及其制作方法，以及顯示裝置。該OLED顯示面板包括：透明基板，以及依次設置于該透明基板一側的陽極層、發光層和陰極層，陰極層包括多條平行設置的金屬線柵；該陰極層，用于對入射的光線，透射振動方向垂直于金屬線柵的光線并形成偏振光，反射振動方向平行于金屬線柵的光線。本發明實施例能夠實現一種透光率和導電性較高的金屬電極，并且該金屬電極的制作工藝也不會影響OLED顯示面板的光電性能。

技術領域

本申請涉及但不限于顯示技術領域，尤指一種OLED顯示面板及其制作方法，以及顯示裝置。

背景技術

隨著顯示技術的發展，雙面發光型有機電致發光顯示(OrganicElectroluminance Display，簡稱為：OLED)面板(也稱為：透明OLED顯示面板)作為一種新的顯示技術，在建筑、廣告和公共信息等領域具有廣泛的應用前景。

制備透明OLED顯示面板需要解決透明電極的問題，目前通常使用的透明電極分為兩類，一類是薄層金屬或合金，該類金屬電極的制備工藝相對簡單，但是難以精確控制金屬電極的透過率和導電性；另一類是采用氧化銦錫(Indium Tin Oxide，簡稱為：ITO)等透過率較高的金屬氧化物，但該類型的電極需要在濺射后進行高溫退火工藝，會嚴重破壞OLED顯示面板的有機膜層，影響面板的光電性能。

發明內容

為了解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種OLED顯示面板及其制作方法，以及顯示裝置，能夠實現一種透光率和導電性較高的金屬電極，并且該金屬電極的制作工藝也不會影響OLED顯示面板的光電性能。

本發明實施例提供一種OLED顯示面板，包括：透明基板，以及依次設置于所述透明基板一側的陽極層、發光層和陰極層，所述陰極層包括多條平行設置的金屬線柵；

所述陰極層，用于對入射的光線，透射振動方向垂直于所述金屬線柵的光線并形成偏振光，反射振動方向平行于所述金屬線柵的光線。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，所述陽極層為透明電極層；

所述OLED顯示面板，用于通過穿過所述陰極層的光線在所述陰極層遠離所述發光層的一側進行顯示，以及通過所述陰極層反射的光線穿過所述陽極層和所述透明基板后，在所述透明基板遠離所述發光層的一側進行顯示。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，所述多條金屬線柵為等間距設置的。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，所述金屬線柵的周期為90納米到150納米，且所述金屬線柵的線寬為50納米到60納米。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，所述金屬線柵的占空比為0.33到0.67。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，所述金屬線柵的高度為100納米到170納米。

可選地，如上所述的OLED顯示面板中，還包括：所述陽極層接近所述發光層一側依次設置的空穴注入層和空穴傳輸層，所述陰極層接近所述發光層一側依次設置的電子注入層和電子傳輸層。

本發明實施例還提供一種OLED顯示面板的制作方法，包括：

形成OLED顯示面板的陰極金屬層；

對所述陰極金屬層采用納米印壓工藝形成陰極層，所形成的陰極層包括多條平行設置的金屬線柵；

其中，所述陰極層，用于對入射的光線，透射振動方向垂直于所述金屬線柵的光線并形成偏振光，反射振動方向平行于所述金屬線柵的光線。

可選地，如上所述的OLED顯示面板的制作方法中，所述對所述陰極金屬層采用納米印壓工藝形成陰極層；包括：

在所述陰極金屬層上涂覆膠材形成膠層；