[發明專利]一種OLED顯示面板及其制作方法,以及顯示裝置在審
| 申請號: | 201811062936.1 | 申請日: | 2018-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN109256488A | 公開(公告)日: | 2019-01-22 |
| 發明(設計)人: | 胡偉頻;姜明宵;孫曉;邱云;王丹 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 張京波;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬線柵 陰極層 金屬電極 透明基板 顯示裝置 偏振光 振動方向垂直 振動方向平行 導電性 光電性能 平行設置 依次設置 制作工藝 發光層 透光率 陽極層 透射 入射 反射 制作 | ||
1.一種OLED顯示面板,其特征在于,包括:透明基板,以及依次設置于所述透明基板一側的陽極層、發光層和陰極層,所述陰極層包括多條平行設置的金屬線柵;
所述陰極層,用于對入射的光線,透射振動方向垂直于所述金屬線柵的光線并形成偏振光,反射振動方向平行于所述金屬線柵的光線。
2.根據權利要求1所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述陽極層為透明電極層;
所述OLED顯示面板,用于通過穿過所述陰極層的光線在所述陰極層遠離所述發光層的一側進行顯示,以及通過所述陰極層反射的光線穿過所述陽極層和所述透明基板后,在所述透明基板遠離所述發光層的一側進行顯示。
3.根據權利要求1所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述多條金屬線柵為等間距設置的。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述金屬線柵的周期為90納米到150納米,且所述金屬線柵的線寬為50納米到60納米。
5.根據權利要求1~3中任一項所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述金屬線柵的占空比為0.33到0.67。
6.根據權利要求1~3中任一項所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述金屬線柵的高度為100納米到170納米。
7.根據權利要求1~3中任一項所述的OLED顯示面板,其特征在于,還包括:所述陽極層接近所述發光層一側依次設置的空穴注入層和空穴傳輸層,所述陰極層接近所述發光層一側依次設置的電子注入層和電子傳輸層。
8.一種OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
形成OLED顯示面板的陰極金屬層;
對所述陰極金屬層采用納米印壓工藝形成陰極層,所形成的陰極層包括多條平行設置的金屬線柵;
其中,所述陰極層,用于對入射的光線,透射振動方向垂直于所述金屬線柵的光線并形成偏振光,反射振動方向平行于所述金屬線柵的光線。
9.根據權利要求8所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,所述對所述陰極金屬層采用納米印壓工藝形成陰極層;包括:
在所述陰極金屬層上涂覆膠材形成膠層;
采用所述納米印壓工藝在所述膠層上引壓出多條平行設置的膠質線柵;
采用刻蝕工藝對所述膠層和所述陰極金屬層進行處理,形成包括多條平行設置的金屬線柵的陰極層。
10.根據權利要求8所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,所述形成OLED顯示面板的陰極金屬層之前,所述方法還包括:
在所述OLED顯示面板的透明基板上依次形成陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、所述陽極層、電子傳輸層和電子注入層。
11.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如權利要求1~7中任一項所述的OLED顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





