[發明專利]曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺

在審

• 申請號: 201811054907.0
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN109188867A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 黃北洲
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤

本發明公開了一種曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺。所述曝光機臺包括：曝光部件、與所述曝光部件控制連接的曝光補償控制模塊、及曝光補償表，所述曝光補償表包括：曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型、光罩開口尺寸、及對應的曝光能量和曝光時間參數；所述的曝光補償控制模塊根據曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型和現有光罩開口尺寸從曝光補償表中讀取對應的曝光能量和曝光時間參數進行曝光。本發明通過生成記錄有預設的曝光參數和得到的光阻圖案線寬值的曝光補償表，而在曝光時查詢曝光補償表查詢對應的曝光能量和曝光時間參數，使得適用不同曝光參數曝光后形成的光阻圖案線寬一致更高，顯示效果更好。

技術領域

本發明涉及光阻曝光領域，尤其涉及一種曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺。

背景技術

光阻曝光顯示技術普遍應用于各種領域，以顯示面板的制造來說，顯示面板上各光阻的圖案形成都是普遍采用對光阻進行曝光顯影技術形成的。

對光阻進行曝光時，通常需要使用曝光機，配合特定圖案的光罩，使得光阻部分暴露部分遮擋，以在顯影后形成預設的圖案。曝光顯影后形成的光阻線寬與光罩的開口尺寸和曝光機臺的相關參數有直接關系。當同一黑色矩陣(black matrix)光阻在兩種不同曝光機的曝光參數狀態下使用時，因頻譜差異不同，材料反應時交聯程度不同，最終造成圖案線寬(pattern CD)差異，導致不同產品的光阻圖案線寬不同，顯示效果受到明顯影響。

發明內容

有鑒于現有技術的上述問題，本發明所要解決的技術問題是提供一種能適用不同曝光參數使得曝光后光阻圖案線寬一致的曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺。

為實現本發明的目的，本發明提供了一種曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺。

一種曝光補償表的生成方法，包括以下步驟：

A：按照預設的曝光參數，開始一次曝光顯影測試，并將預設的曝光參數和得到的光阻圖案線寬值記錄至曝光補償表中；所述曝光參數包括以下各參數的至少一個：曝光機臺類型、光罩開口尺寸、光能量、曝光時間；

B：按照曝光補償表預設的曝光參數調整曝光機，重新執行步驟A，直至所有預設的曝光參數全部測試完畢。

可選的，所述曝光補償表中，各次測試中對應同一位置的光罩開口尺寸不變，光罩開口尺寸作為一固定值記錄在所述曝光補償表中。這樣的設計使得曝光補償表成為針對某一特定光罩開口尺寸的曝光補償表。

可選的，所述的曝光補償表中，所述曝光機臺類型為掃描式曝光機。

可選的，所述的曝光補償表中，所述曝光機為近接式曝光機，所述曝光參數還包括曝光機的光線波段。這樣的設計尤其適用于可對曝光機的光線波段進行調配的曝光機，其適用范圍更廣。

可選的，所述曝光參數還包括被曝光的光阻類型。這樣的設計還適用于對不同光阻類型進行曝光補償的調配，其適用范圍更廣。

可選的，所述的光阻類型可以為一固定值，所述的光阻類型為黑色矩陣光阻。

一種使用上述曝光補償表的光阻曝光補償的方法，包括：

M：確認查詢的目標參數，所述的目標參數包括：曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型和現有光罩開口尺寸；

N：以步驟M中的目標參數為查詢條件，在預設的曝光參數補償表中查詢對應的曝光能量和曝光時間參數，進行曝光。

可選的，所述的步驟N中，當查詢的目標參數落入曝光參數補償表中對應參數的一預設閾值范圍內，即認為符合查詢條件。這樣的設計是使用一預設閾值范圍進行閾值匹配而不是精確匹配，其適應性更好。