[發明專利]曝光補償表的生成方法、光阻曝光補償的方法及曝光機臺

在審

• 申請號: 201811054907.0
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN109188867A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 黃北洲
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤

1.一種曝光補償表的生成方法，其特征在于，包括以下步驟：

A：按照預設的曝光參數，開始一次曝光顯影測試，并將預設的曝光參數和得到的光阻圖案線寬值記錄至曝光補償表中；所述曝光參數包括以下各參數的至少一個：曝光機臺類型、光罩開口尺寸、光能量、曝光時間；

B：按照曝光補償表預設的曝光參數調整曝光機，重新執行步驟A，直至所有預設的曝光參數全部測試完畢。

2.如權利要求1所述的一種曝光補償表的生成方法，其特征在于，所述曝光補償表中，各次測試中對應同一位置的光罩開口尺寸不變，光罩開口尺寸作為一固定值記錄在所述曝光補償表中。

3.如權利要求1所述的一種曝光補償表的生成方法，其特征在于，所述的曝光補償表中，所述曝光機為掃描式曝光機。

4.如權利要求1所述的一種曝光補償表的生成方法，其特征在于，所述的曝光補償表中，所述曝光機為近接式曝光機，所述曝光參數還包括曝光機的光線波段。

5.如權利要求1所述的一種曝光補償表的生成方法，其特征在于，所述曝光參數還包括被曝光的光阻類型。

6.一種使用如權利要求1-5任意一項所述的曝光補償表的光阻曝光補償的方法，其特征在于，包括以下步驟：

M：確認查詢的目標參數，所述的目標參數包括：曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型和現有光罩開口尺寸；

N：以步驟M中的目標參數為查詢條件，在預設的曝光參數補償表中查詢對應的曝光能量和曝光時間參數，進行曝光。

7.如權利要求6所述的一種光阻曝光補償的方法，其特征在于，所述的步驟N中，當查詢的目標參數落入曝光參數補償表中對應參數的一預設閾值范圍內，即認為符合查詢條件。

8.如權利要求6所述的一種光阻曝光補償的方法，其特征在于，所述的步驟N中，確認查詢的目標參數還包括曝光機的光線波段。

9.如權利要求6所述的一種光阻曝光補償的方法，其特征在于，所述的曝光參數還包括光阻類型。

10.一種曝光機臺，其特征在于，包括：曝光部件、與所述曝光部件控制連接的曝光補償控制模塊、及曝光補償表，所述的曝光補償表包括：曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型、光罩開口尺寸、及對應的曝光能量和曝光時間參數；所述的曝光補償控制模塊根據曝光后的目標光阻圖案線寬值、曝光機臺類型和現有光罩開口尺寸從曝光補償表中讀取對應的曝光能量和曝光時間參數，控制曝光部件進行曝光。