[發(fā)明專利]一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811049556.4 | 申請日: | 2018-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN109136881B | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 閻文博;梁超;任滿意;李菲菲;昝知韜 | 申請(專利權(quán))人: | 河北工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C23C16/40 | 分類號: | C23C16/40;C23C16/48;C23C16/52 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300401 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 鈮酸鋰 晶片 激光 輔助 氧化鋅 生長 裝置 方法 | ||
1.一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的裝置,其特征在于:通過激光器(1)、凸透鏡(2)、鈮酸鋰晶片(8)形成聚焦光路,通過銅質(zhì)容器(3)、電阻加熱棒(4)、溫度控制器(5)、熱電偶(7)組成溫控系統(tǒng),實現(xiàn)聚四氟乙烯容器(6)內(nèi)溶液的控溫,通過聚焦光路、溫控系統(tǒng)、聚四氟乙烯容器三部分組合實現(xiàn)鈮酸鋰晶片特定區(qū)域的氧化鋅生長;其中所述聚四氟乙烯容器(6)內(nèi)容納有氧化鋅生長溶液,所述聚四氟乙烯容器(6)的一側(cè)壁設置有通孔,所述鈮酸鋰晶片(8)固定在所述通孔位置處,使所述鈮酸鋰晶片(8)與所述溶液相接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的裝置,其特征在于:所述的鈮酸鋰晶片(8)不局限于鈮酸鋰,是光折變晶體。
3.如權(quán)利要求2所述的一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的裝置,其特征在于:所述光折變晶體為鉭酸鋰或鈦酸鋇。
4.一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的方法,其特征在于:包括以下步驟:
第一步,將清洗后的鈮酸鋰晶片固定到聚四氟乙烯容器上;
第二步,配置等摩爾比的醋酸鋅和六亞甲基四胺溶液,溶液的溶劑為去離子水;
第三步,將配置好的溶液在室溫下磁力攪拌5~15min使其充分溶解,然后倒入聚四氟乙烯容器內(nèi);
第四步,將盛有溶液的聚四氟乙烯容器放置于銅質(zhì)容器中;打開激光器,調(diào)節(jié)激光功率在0.5mW~2mW之間,調(diào)節(jié)聚四氟乙烯容器的位置使激光聚焦于鈮酸鋰晶片上;
第五步,通過溫度控制器,設定生長溫度在75℃~85℃之間,當溫度達到60℃~80℃時調(diào)節(jié)激光功率在0.6W~1.2W之間;
第六步,保持激光功率在0.6W~1.2W之間和溫度在75℃~85℃下生長1h,得到生長在鈮酸鋰晶片上的不同直徑大小棒狀氧化鋅。
5.如權(quán)利要求4所述的一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的方法,其特征在于:所述的氧化鋅的制備方法中,得到的不同直徑的棒狀氧化鋅通過激光功率的大小調(diào)控:當激光功率從0.6W~1.2W范圍內(nèi)增長,在溶液濃度不變的情況下,氧化鋅的直徑在1μm~8μm之間增長。
6.如權(quán)利要求4所述的一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的方法,其特征在于:所述的第一步中的鈮酸鋰晶片的清洗為依次經(jīng)過去離子水、酒精、丙酮的清洗。
7.如權(quán)利要求4所述的一種基于鈮酸鋰晶片的激光輔助氧化鋅生長的方法,其特征在于:所述的第五步中最佳生長溫度為80℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





